[实用新型]一种用于晶圆生产离子注入的控制装置有效
申请号: | 201821629072.2 | 申请日: | 2018-10-08 |
公开(公告)号: | CN209000860U | 公开(公告)日: | 2019-06-18 |
发明(设计)人: | 王昌华 | 申请(专利权)人: | 江苏英锐半导体有限公司 |
主分类号: | H01J37/317 | 分类号: | H01J37/317;H01J37/30 |
代理公司: | 常州市权航专利代理有限公司 32280 | 代理人: | 袁兴隆 |
地址: | 224000 江苏省盐城市盐城经*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 盛放腔 筒体 内部设置 控制装置 连通设置 升降杆 挂杆 晶圆 制备 离子 晶圆加工设备 本实用新型 活塞 动力活塞 附属装置 恢复弹簧 挤压弹簧 下部区域 限位弹簧 右固定块 中部区域 左固定块 充气缸 工作腔 固定杆 螺纹杆 密封环 密封塞 伸缩腔 输出孔 输入孔 推动杆 限位板 右挡块 支撑环 支撑架 转动杆 左挡块 横板 两组 挑杆 支腿 生产 | ||
本实用新型涉及晶圆加工设备附属装置的技术领域,特别是涉及一种用于晶圆生产离子注入的控制装置,其可以通过提高筒体的盛放腔内的制备气体的控制精度;并且可以提高筒体盛放腔的制备气体的利用率;包括筒体和四组支腿,筒体的内部设置有盛放腔,盛放腔的顶端左侧连通设置有输入孔,盛放腔的顶端中部区域连通设置有输出孔;还包括左挂杆、右挂杆、支撑环、密封环、升降杆、螺纹杆、限位板和调节活塞,升降杆的中下部区域内部设置有伸缩腔;还包括横板、两组支撑架、挤压弹簧、密封塞、充气缸、恢复弹簧、左固定块、右固定块、左挡块、右挡块、动力活塞、推动杆、挑杆、固定杆、限位弹簧和转动杆,筒体的内部设置有工作腔。
技术领域
本实用新型涉及晶圆加工设备附属装置的技术领域,特别是涉及一种用于晶圆生产离子注入的控制装置。
背景技术
众所周知,离子注入技术是把掺杂剂的原子引入固体中的一种材料改性方法,简单地说,离子注入就是将离子源产生的离子经加速后高速射向材料表面,当离子进入表面,将与固体中的原子碰撞,将其挤进内部,并在其射程前后和侧面激发出一个尾迹,因此可知,通过控制离子源的量便可以控制材料表面注入离子的量,这里的晶圆生产用的离子源有BF3、ASH3和PH3,而给晶圆注入离子只需将需求的气体送至一个放电腔室,然后热灯丝发射的电子与气体分子碰撞,当能量足够大时,气体分子便被离化,然后离子被送至下面工序,其中用于晶圆生产离子注入的控制装置是一种在晶圆离子源的制备的过程中,用于控制所需气体流量的装置,其在晶圆制作的领域中得到了广泛的使用;现有的用于晶圆生产离子注入的控制装置包括筒体和四组支腿,所述筒体的内部设置有盛放腔,所述盛放腔的顶端左侧连通设置有输入孔,所述输入孔中部连通设置有左控制阀,所述盛放腔的顶端中部区域连通设置有输出孔,所述输出孔的中部连通设置有右控制阀,所述筒体的底端的左前侧、左后侧、右前侧和右后侧分别与四组支腿的顶端连接;现有的用于晶圆生产离子注入的控制装置使用时,首先将筒体通过四组支腿固定好,然后将系统的管路连接好,然后制备好的晶圆离子源加工用气体通过输入孔输入到筒体内,然后关闭左控制阀,这时打开右控制阀使制备的气体从输出孔送至离子源制备用的放电腔室即可;现有的用于晶圆生产离子注入的控制装置使用中发现,首先无法精确的控制筒体的盛放腔内的制备气体的量,从而导致使用局限性较高;并且筒体盛放腔内的制备气体的利用率较低,从而导致实用性较差。
实用新型内容
为解决上述技术问题,本实用新型提供一种可以通过提高筒体的盛放腔内的制备气体的控制精度,降低使用局限性;并且可以提高筒体盛放腔的制备气体的利用率,增强实用性的用于晶圆生产离子注入的控制装置。
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