[实用新型]一种分架式晶圆清洗装置有效

专利信息
申请号: 201821636253.8 申请日: 2018-10-09
公开(公告)号: CN208873703U 公开(公告)日: 2019-05-17
发明(设计)人: 陆孙华 申请(专利权)人: 苏州英尔捷微电子股份有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 代理人: 谈杰
地址: 215000 江苏省苏州市工业*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 活动轴 溶液箱 限位块 滚筒 支脚 过滤斗 滤网 毛刷 分架式晶圆清洗装置 本实用新型 内部安装 盖板 晶圆清洗装置 表面安装 顶部安装 外部安装 回收桶 输出管 输入管 压力泵 清洗
【说明书】:

实用新型公开了一种分架式晶圆清洗装置,包括溶液箱,溶液箱的底部安装有第一支脚和第二支脚,溶液箱的顶部安装有盖板,盖板的内部安装有第二活动轴,第二活动轴的一侧安装有第二滚筒,第二滚筒的表面安装有第二毛刷,溶液箱的内部安装有第一活动轴,第一活动轴的一侧安装有第一滚筒,第一滚筒的外部安装有第一毛刷,第一支脚的一侧安装有第二限位块,第二支脚的一侧安装有第一限位块,第一限位块和第二限位块的中间位置设置有过滤斗,过滤斗的底部设置有滤网,滤网的底部安装有回收桶。本实用新型通过设置输入管、压力泵、输出管、过滤斗、滤网、第一活动轴和第一毛刷解决了现有晶圆清洗装置清洗不够全面高效和无法循环使用耗费成本的问题。

技术领域

本实用新型涉及晶圆清洗装置技术领域,具体为一种分架式晶圆清洗装置。

背景技术

晶圆对微污染物的存在非常敏感,为了达成晶圆表面无污染物的目标,必须移除表面的污染物并避免在制作前让污染物重新残余在晶圆表面,因此晶圆在制造过程中,清洗尤为重要,目前晶圆清洗技术大致可分为湿式与干式两大类,仍以湿式清洗法为主流,所谓湿式化学清洗技术,是以液状酸碱溶剂与去离子水之混合物清洗晶圆表面。

现有技术存在所述以下不足:

1、现有晶圆清洗装置清洗不够全面不够高效;

2、现有晶圆清洗装置清洗液无法循环使用,耗费成本。

实用新型内容

(一)解决的技术问题

针对现有技术的不足,本实用新型提供了一种分架式晶圆清洗装置,解决了现有晶圆清洗装置清洗不够全面高效和无法循环使用耗费成本的问题。

(二)技术方案

为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种分架式晶圆清洗装置,包括溶液箱,所述溶液箱的底部安装有第一支脚和第二支脚,所述溶液箱的顶部安装有盖板,所述盖板的内部安装有第二活动轴,且第二活动轴的一侧安装有第二滚筒,所述第二滚筒的表面套接有第二毛刷,所述溶液箱的内部安装有第一活动轴,且第一活动轴的一侧安装有第一滚筒,所述第一滚筒的外部套接有第一毛刷,所述第一支脚的一侧安装有第二限位块,所述第二支脚的一侧安装有第一限位块,所述第一限位块和第二限位块的中间位置设置有过滤斗,且过滤斗的底部设置有滤网,所述滤网的底部安装有回收桶,且回收桶的一侧安装有压力泵。

优选的,所述盖板的另一侧安装有卡孔,所述溶液箱的一侧安装有卡柱。

优选的,所述盖板的一侧通过铰链与溶液箱相连接。

优选的,所述溶液箱的一侧连接有输入管,所述溶液箱的一侧安装有输出管。

优选的,所述输入管的一端与压力泵的输出口相互连接,且压力泵的输入口与回收桶的出水口相互连接,所述输出管的一端与过滤斗相互连接。

(三)有益效果

本实用新型提供了一种分架式晶圆清洗装置,具备以下有益效果:

(1)本实用新型通过设置压力泵、第一活动轴、第一毛刷、第二活动轴和第二毛刷,使本实用新型具有全面高效清洗的功能,使用时将晶圆放入溶液箱的内部,合上盖板将卡孔牢牢地套在卡柱上,压力泵通过输入管向溶液箱内部注入溶液,输出管将溶液箱内部的溶液输送进回收桶内,同时压力泵利用压力使水流加速并带动盖板和溶液箱内部的滚筒同时滚动,利用滚筒上的毛刷共同清刷晶圆的表面,能够更高效全面的对晶圆进行清洗。

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