[实用新型]一种晶片承载盘、研磨机及抛光机有效

专利信息
申请号: 201821664764.0 申请日: 2018-10-12
公开(公告)号: CN209533058U 公开(公告)日: 2019-10-25
发明(设计)人: 肖亚东;刘国军;谈笑天 申请(专利权)人: 汉能新材料科技有限公司
主分类号: B24B37/00 分类号: B24B37/00;B24B1/00
代理公司: 北京华夏泰和知识产权代理有限公司 11662 代理人: 孟德栋
地址: 101407 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 子轮 圆形通孔 母轮 转动 本实用新型 晶片承载盘 晶片放置 承载盘 抛光机 研磨机 晶片 种晶 工业生产技术 抛光机抛光 抛光效果 抛光盘 外轮廓 吻合
【权利要求书】:

1.一种晶片承载盘,其特征在于,包括:母轮和子轮,所述母轮上开设有若干圆形通孔,所述子轮的数量与所述圆形通孔的数量相同,所述子轮放置于所述圆形通孔内,且所述子轮的外轮廓与所述圆形通孔吻合,所述子轮能够在所述圆形通孔内转动,所述子轮上开设有晶片放置孔。

2.根据权利要求1所述的晶片承载盘,其特征在于,所述晶片放置孔为矩形通孔。

3.根据权利要求1所述的晶片承载盘,其特征在于,所述子轮的厚度与所述母轮相等。

4.根据权利要求1所述的晶片承载盘,其特征在于,所述母轮的外周面设有锯齿结构。

5.根据权利要求1所述的晶片承载盘,其特征在于,圆形通孔和所述子轮的数量均为四个。

6.根据权利要求1所述的晶片承载盘,其特征在于,所述子轮的直径与所述母轮的直径之比为1/4-1/3。

7.一种研磨机,其特征在于,包括上研磨盘、下研磨盘、研磨液输送组件以及晶片承载盘,所述晶片承载盘为权利要求1-6任一项所述的晶片承载盘。

8.一种抛光机,其特征在于,包括上抛光盘、下抛光盘、抛光液输送组件以及晶片承载盘,所述晶片承载盘为权利要求1-6任一项所述的晶片承载盘。

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