[实用新型]一种显示基板、显示装置有效

专利信息
申请号: 201821677836.5 申请日: 2018-10-16
公开(公告)号: CN208908224U 公开(公告)日: 2019-05-28
发明(设计)人: 叶成枝;操彬彬;安晖;栗芳芳;李恒滨 申请(专利权)人: 合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静;贾玉
地址: 230012 *** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 膜层 显示基板 本实用新型 显示器件 显示装置 阻挡结构 段差 良率 包围 生产
【说明书】:

实用新型公开一种显示基板、显示装置,涉及显示技术领域,为解决现有的显示器件中,膜层的段差较大,容易对显示器件的生产良率造成影响的问题。所述显示基板包括膜层,所述膜层上设置有膜层过孔,所述显示基板还包括:设置在所述膜层过孔的边缘,包围所述膜层过孔的阻挡结构。本实用新型提供的显示基板用于显示。

技术领域

本实用新型涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示基板、显示装置。

背景技术

目前,为了保证显示器件的工作性能,一般会在显示器件中制作用于平整基板上因各种不同层图案所造成的面内段差的平坦化层,但由于该平坦化层的厚度较厚,使得在平坦化层上制作过孔时,该过孔处将产生较大的段差,这样在后续制作其它膜层时,在过孔处容易产生不良,对显示器件的生产良率产生影响。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种显示基板、显示装置,用于解决现有的显示器件中,膜层的段差较大,容易对显示器件的生产良率造成影响的问题。

为了实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:

本实用新型的第一方面提供一种显示基板,包括膜层,所述膜层上设置有膜层过孔,所述显示基板还包括:设置在所述膜层过孔的边缘,包围所述膜层过孔的阻挡结构。

可选的,所述阻挡结构包括至少一圈凹槽。

可选的,当所述阻挡结构包括多圈凹槽时,所述多圈凹槽依次嵌套设置。

可选的,位于最内部的所述凹槽在垂直于其自身延伸方向上与所述膜层过孔之间的距离大于等于0.8μm,且小于等于1.2μm。

可选的,所述凹槽在垂直于所述显示基板的衬底基板上的深度大于等于0.2μm,且小于等于0.4μm,所述凹槽在垂直于其自身延伸方向上的宽度大于等于0.8μm,且小于等于1μm。

可选的,所述阻挡结构包括至少一圈挡墙图形。

可选的,所述挡墙图形与所述膜层为一体结构。

可选的,当所述阻挡结构包括多圈挡墙图形时,所述多圈挡墙图形依次嵌套设置。

可选的,所述挡墙图形在垂直于所述显示基板的衬底基板上的高度大于等于0.3μm,且小于等于0.5μm,所述挡墙图形在垂直于其自身延伸方向上的宽度大于等于0.8μm,且小于等于1μm。

可选的,所述膜层包括有机膜层。

基于上述显示基板的技术方案,本实用新型的第二方面提供一种显示装置,包括上述显示基板。

本实用新型提供的技术方案中,在显示基板中的膜层过孔的边缘设置了能够包围该膜层过孔的阻挡结构,使得在后续制作位于膜层上的其它膜层时,形成在其它膜层上的光刻胶不会从膜层过孔的边缘向膜层过孔中大量流入,保证了位于膜层过孔中的光刻胶的厚度与位于膜层过孔外的光刻胶的厚度基本相同,这样在后续对光刻胶进行曝光、显影时,膜层过孔的内部就不会残留光刻胶,相应的在进行刻蚀工艺后,膜层过孔中也不会残留其它膜层材料,从而很好的保证了显示基板的生产良率。

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本实用新型的进一步理解,构成本实用新型的一部分,本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型,并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中:

图1为相关技术中制作的显示基板的结构示意图;

图2-图4为相关技术中制作显示基板的流程图;

图5为本实用新型实施例提供的包括挡墙图形的显示基板的结构示意图;

图6为图5中挡墙图形的俯视示意图;

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