[实用新型]一种水平结构的垂直腔面发射激光器芯片及激光器有效

专利信息
申请号: 201821678368.3 申请日: 2018-10-16
公开(公告)号: CN208890095U 公开(公告)日: 2019-05-21
发明(设计)人: 彭钰仁;贾钊;许晏铭;洪来荣;陈为民;陈进顺;翁妹芝;张坤铭;朱鸿根 申请(专利权)人: 厦门乾照半导体科技有限公司
主分类号: H01S5/183 分类号: H01S5/183;H01S5/187;H01S5/024
代理公司: 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 代理人: 梁香美
地址: 361000 福建省厦门市厦*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 暴露区域 上表面 柱状层 绝缘层 衬底 垂直腔面发射激光器芯片 第二电极 第一电极 水平结构 激光器 电极层 发光层 外延层 包覆绝缘层 散热性能 包覆 申请 芯片
【权利要求书】:

1.一种水平结构的垂直腔面发射激光器芯片,其特征在于,包括衬底,依次形成于所述衬底上的外延层、绝缘层和电极层,所述外延层包括位于所述衬底上的N型层和位于所述N型层上的柱状层,所述柱状层包括位于所述N型层上的发光层和位于所述发光层上的P型层;

所述柱状层与所述N型层上表面形成第一暴露区域;

所述绝缘层包覆所述柱状层以及所述第一暴露区域,且与所述P型层上表面形成第二暴露区域,以及,与所述N型层上表面形成第三暴露区域;

所述电极层包括第一电极层和第二电极层;

第一电极层包覆所述绝缘层,且在所述第二暴露区域,与所述P型层上表面形成第四暴露区域,以及,与位于所述N型层上的、形成第三暴露区域一侧的所述绝缘层的水平面形成第五暴露区域;

第二电极层位于所述第三暴露区域上。

2.根据权利要求1所述的芯片,其特征在于,所述P型层包括形成于发光层上的P-DBR层和形成于所述P-DBR层上的欧姆接触层。

3.根据权利要求2所述的芯片,其特征在于,所述P-DBR层包括多层交替的砷化铝层和砷化铝镓层。

4.根据权利要求1所述的芯片,其特征在于,所述柱状层的宽度不大于20um。

5.根据权利要求1所述的芯片,其特征在于,所述N型层为N-DBR层,所述N-DBR层包括多层交替的砷化铝层和砷化铝镓层。

6.根据权利要求1所述的芯片,其特征在于,所述绝缘层的厚度为350-550nm。

7.根据权利要求1所述的芯片,其特征在于,所述第四暴露区域为圆形区域。

8.根据权利要求7所述的芯片,其特征在于,所述圆形区域的直径范围为10-20um。

9.根据权利要求1所述的芯片,其特征在于,所述发光层为量子阱结构。

10.一种激光器,其特征在于,包括权利要求1至9任一所述的一种水平结构的垂直腔面发射激光器芯片。

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