[实用新型]一种用于处理电子研磨废水的系统

说明书

本实用新型公开了一种用于处理电子研磨废水的系统，包括，原水箱，超滤给水泵，自清洗过滤器，陶瓷超滤膜装置，陶瓷超滤膜反洗泵，超滤产水箱，反渗透系统超滤给水泵，保安过滤器，反渗透系统高压泵，反渗透膜系统，产水箱，监测仪表，PLC；超滤给水泵进口通过管道与原水箱内的原水连通、出水口与自清洗过滤器进水口连通，自清洗过滤器出水口通过管道与陶瓷超滤膜装置进水口连通，陶瓷超滤膜装置出水口连通到超滤产水箱，超滤产水箱经过泵以后与反渗透进水泵入口连通，反渗透进水泵出水口与保安过滤器进水口连通，保安过滤器出水口与反渗透系统高压泵入口连通，反渗透系统高压泵出口与反渗透膜系统进水口连通，反渗透膜系统出水口与产水箱连通。

技术领域

本实用新型涉及半导体/电子行业硅研磨废水及切割废水的处理，属环保水处理领域，特别是涉及一种用于处理电子研磨废水的系统。

背景技术

在半导体生产过程中，单质硅是重要的半导体材料，同时半导体生产对超纯水的要求极高，在生产中多道工序都需用超纯水来进行清洗且用水量大，研磨工序只是半导体生产过程中的几道工序，此生产过程中会产生大量含硅细颗粒的废水，此种废水浊度非常高（废水的浊度可高达5000-10000NTU）、颗粒细小、在水中稳定难沉淀。如何有效地对废水中的晶体硅及超纯水进行回收利用具有十分重要的经济和环保意义。

传统的研磨废水处理是对废水进行一系列的前处理，来去除大部分的晶体硅，再通过反渗透系统进行深度处理。传统的前置处理方法有絮凝沉淀、多介质过滤和有机超滤过滤，但两者都有不足之处．使用絮凝沉淀系统占地面积大，废水中的硅不能完全去除，而且由于含有化学药品，废水难以再使用。直接使用有机超滤过滤处理，膜易受硅粉细颗粒的阻塞和污染，过滤压力很快升高，通量下降明显，耗电量较大，过滤周期短，处理费用高。

针对现有技术中所存在的不足，本实用新型提供了一种用于处理电子研磨废水的系统，其取消了传统的沉淀池、多介质等一些列处理工艺，直接将原水输送进自清洗过滤器及立式内压陶瓷超滤膜装置，极大的减少了占地及运行成本。

实用新型内容

有鉴于现有技术的上述缺陷，本实用新型所要解决的技术问题是提供一种用于处理电子研磨废水的系统。

为实现上述目的，本实用新型提供了一种用于处理电子研磨废水系统，包括，

原水箱，用于收集研磨废水；

超滤给水泵，用于将原水输送至自清洗过滤器；

自清洗过滤器，利用滤网直接拦截水中的杂质，去除水体悬浮物、颗粒物，净化水质，减少系统污垢、菌藻、锈蚀等产生，以净化水质及保护系统其他设备正常工作的精密设备；

陶瓷超滤膜装置，通过内置的陶瓷超滤膜截留水中大于30纳米的颗粒物；

陶瓷超滤膜反洗泵，将水打进产水管，清洗膜内部污染物；

超滤产水箱，用于收集陶瓷超滤膜系统产水；

反渗透系统超滤给水泵，用于将超滤产水输送至保安过滤器；

保安过滤器，去除粒径5μm以上的细小微粒，来满足后续工序对进水的要求；

反渗透系统高压泵，用于提高进水压力，提供了反渗透系统中克服渗透压的能量；

反渗透膜系统，通过内置的反渗透膜截留水中离子和有机物，降低电导率，产水回用；

产水箱，用于贮存过滤后的清洁水源，等待回用；

监测仪表，用于监测水质与水量，设置在原水箱、超滤产水箱、产水箱内；