[实用新型]化学水浴镀膜装置有效
申请号: | 201821705032.1 | 申请日: | 2018-10-19 |
公开(公告)号: | CN209194061U | 公开(公告)日: | 2019-08-02 |
发明(设计)人: | 惠述伟;朱海安;张升飞 | 申请(专利权)人: | 华夏易能(广东)新能源科技有限公司 |
主分类号: | C23C18/12 | 分类号: | C23C18/12 |
代理公司: | 北京尚伦律师事务所 11477 | 代理人: | 毛宏宝 |
地址: | 517000 广东省河源市高新技术产业*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 反应槽 馈入 扰流 反应槽外部 镀膜装置 化学水 本实用新型 均匀一致 快速混合 扰动力 输入端 原有的 扰动 溶质 施加 扩散 流动 | ||
本实用新型是关于一种化学水浴镀膜装置,包括:反应槽、馈入管和扰流单元;所述馈入管,位于靠近所述反应槽的槽底的位置,输入端位于反应槽外部,用于将所述反应槽外部的反应液馈入所述反应槽的内部;所述扰流单元,位于所述反应槽内,且位于所述馈入管上方,用于对所述反应槽内的反应液施加扰动力。该技术方案通过扰流单元扰动反应液运动,加快馈入管上方的反应液的流动和扩散,从而能够使馈入管馈入的反应液与反应槽内原有的反应液快速混合,以实现反应槽内的反应液的温度和溶质浓度尽快达到基本均匀一致。
技术领域
本实用新型涉及化学水浴沉积装置技术领域,尤其涉及化学水浴镀膜装置。
背景技术
目前,具备高效光电转换效率的铜铟镓硒薄膜太阳能电池中硫化镉层作为缓冲层对电池效率提升有重要影响。硫化镉化学水浴是广泛使用的沉积方法,有芯片卧式镀膜方法和芯片立式镀膜两种方法,前者一般用在小面积电池领域,且生产效率较低;后者则在大面积玻璃基底铜铟镓硒电池硫化镉的沉积中具备生产效率较高的优势。
相关技术中,在立式硫化镉化学水浴镀膜系统里,反应液从反应槽顶部溢流口溢出,经过外设加热器加热后,再由底部馈入管馈入到槽底,通过这种反应液的循环以保持槽内反应温度的恒定。
实用新型内容
本实用新型实施例提供一种化学水浴镀膜装置,能够加快反应槽内靠近上部的反应液流动和扩散,以实现反应槽内的反应液温度和溶质浓度基本均匀。所述技术方案如下:
根据本实用新型实施例的第一方面,提供一种化学水浴镀膜装置,包括:反应槽、馈入管和扰流单元;
所述馈入管,位于靠近所述反应槽的槽底的位置,输入端位于反应槽外部,用于将所述反应槽外部的反应液馈入所述反应槽的内部;
所述扰流单元,位于所述反应槽内,且位于所述馈入管上方,用于对所述反应槽内的反应液施加扰动力。
本实用新型实施例提供的技术方案可以包括以下有益效果:该技术方案通过扰流单元扰动反应液运动,加快馈入管上方的反应液的流动和扩散,从而能够使馈入管馈入的反应液与反应槽内原有的反应液快速混合,以实现反应槽内的反应液的温度和溶质浓度尽快达到基本均匀一致,在沉积膜层过程中,玻璃基底上沉积的膜层厚度能够基本达到均匀一致,提升了膜层的质量。
在一个实施例中,所述扰流单元包括:导气管组件;
所述导气管组件,将所述反应槽外部的气体导入所述反应槽内。
本实用新型实施例提供的技术方案可以包括以下有益效果:该技术方案通过导入气体对反应液产生流体动力,使受力的反应液尽量沿其受力方向有规律运动,进一步加快反应槽内靠近反应槽上部和下部的反应液达到尽量混合均匀的速度,改善了反应槽内靠近反应槽上部和下部反应液的温度和浓度的均匀性、一致性。此外,导气管组件结构简单,不占用空间,便于安装。
在一个实施例中,所述导气管组件包括:第一管体和第二管体;
所述第一管体,一端与所述第二管体连通,另一端向远离所述馈入管的方向延伸;
所述第二管体,一端封闭,另一端与所述反应槽外部连通,将所述反应槽外部的气体导入所述第一管体。
本实用新型实施例提供的技术方案可以包括以下有益效果:该技术方案通过第一管体将气体导入反应槽内,使气体推动反应液尽量向反第一管体的延伸方向运动,加快远离馈入管的反应液的扩散,加快了反应槽内反应液达到基本混合均匀的速度。
在一个实施例中,所述导气管组件还包括:顶盖;
所述顶盖,具有多个气孔,位于所述第一管体远离所述馈入管的一端;
所述气孔,与所述第一管体连通。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
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C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
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