[实用新型]一种管式PECVD镀膜装置

说明书

本实用新型提供了一种管式PECVD镀膜装置。它解决了现有镀膜系统中没有混气结构，容易出现石英管内气体混合不充分，严重影响镀膜的一致性，镀膜不稳定等技术问题。本管式PECVD镀膜装置，包括机座，机座上固定有箱体，箱体内设置有内部具有镀膜腔的双层石英管，双层石英管内固定有感应线圈，双层石英管一端上具有取放口，双层石英管上设置有能将取放口封闭住的盖板，盖板和进气管一端相连通，进气管另一端与送气混合机构相连，进气管上设置有电磁阀一，双层石英管另一端和排气管一端相连通，排气管另一端与真空机构相连，排气管上设置有电磁阀二。本实用新型具有镀膜可靠的优点。

技术领域

本实用新型属于太阳电池技术领域，涉及一种镀膜装置，特别是一种管式PECVD镀膜装置。

背景技术

通过PECVD镀膜装置以硅烷和氨气为气源，制备出的具有钝化作用和减反射作用的氮化硅薄膜，它具有卓越的抗氧化和绝缘性能，同时具有良好的阻挡钠离子、掩蔽金属和水蒸汽扩散的能力；它的化学稳定性也很好，除氢氟酸能缓慢腐蚀外，其它酸与它基本不起作用。因此，PECVD制备的氮化硅薄膜在太阳能领域得到广泛应用。

经检索，如中国专利文献公开了一种PECVD镀膜系统【申请号：201310161928.3；公开号：CN 103276369B】。这种PECVD镀膜系统，其特征在于，包括工艺系统、装卸系统、及阀门机构；所述工艺系统包括工艺腔体及工艺反应室；所述工艺反应室设置在工艺腔体内，用于对基片进行镀膜；所述工艺反应室具有一朝向装卸腔体的开口，所述工艺反应室的开口处均设有密封门，用于工艺反应室与工艺腔体的连通或隔离；所述装卸系统包括装卸腔体及传输机械手；传输机械手滑动设置在装卸腔体与工艺腔体之间，用于基片的上下料及传输；所述阀门机构设置在所述工艺腔体与所述装卸腔体之间，用于工艺腔体与装卸腔体之间的连通或隔离；当所述工艺腔体与所述装卸腔体之间隔离时，所述传输机械手位于所述装卸腔体内；所述工艺反应室为两个或两个以上，所述工艺反应室间相互独立且层叠排布设置；所述阀门机构包括固定板、腔体密封门、及用于开关腔体密封门的阀门动力装置，所述固定板上设有与所述工艺反应室的开口一一对应的阀门孔，所述腔体密封门与所述阀门孔一一对应配合且连接至阀门动力装置；所述阀门动力装置包括联动组件及阀门驱动件；所述联动组件包括主动杆、从动杆、第一连接件、第二连接件及压簧，所述主动杆与从动杆的轴向均平行于所述工艺反应室的层叠排布方向；所述主动杆连接至所述阀门驱动件，并在所述阀门驱动件的驱动下沿自身轴向平移；所述第一连接件的一端铰接至所述主动杆、另一端铰接至所述从动杆，所述第二连接件的一端铰接至所述从动杆，另一端铰接至所述固定板；所述第一连接件与所述第二连接件各铰接点的转轴相互平行；所述腔体密封门通过所述压簧连接至所述从动杆。

该专利中公开的镀膜系统虽然安装维护简单、方便，但是，该镀膜系统中没有混气结构，容易出现石英管内气体混合不充分，严重影响镀膜的一致性，镀膜不稳定，因此，设计出一种管式PECVD镀膜装置是很有必要的。

发明内容

本实用新型的目的是针对现有的技术存在上述问题，提出了一种管式PECVD镀膜装置，该镀膜装置具有镀膜可靠的特点。