[实用新型]用于光学元件在线表面洁净监测和处理的装置

权利要求书

1.一种用于光学元件在线表面洁净监测和处理的装置，其特征在于，包括：

光学元件表面颗粒物在线检测系统，其暗场成像系统位于光学元件的上方且垂直于光学元件；

用于对光学元件进行洁净处理的洁净处理装置，其通过水平运动机构和竖直伸缩机构实现对擦拭机构的位置移动，进而可实现对光学元件的表面擦拭；

上位机，其与光学元件表面颗粒物在线检测系统和洁净处理机构通信连接。

2.如权利要求1所述的用于光学元件在线表面洁净监测和处理的装置，其特征在于，所述的暗场成像系统包括成像镜头、CCD和照明光源。

3.如权利要求1所述的用于光学元件在线表面洁净监测和处理的装置，其特征在于，所述光学元件表面颗粒物在线检测系统和洁净处理机构通过控制盒与上位机通信连接。

4.如权利要求1所述的用于光学元件在线表面洁净监测和处理的装置，其特征在于，所述洁净处理装置包括：

水平运动机构，其包括导轨单元、滑动连接在导轨单元内的水平滑块、贯穿水平滑块且与水平滑块螺纹转动连接的水平丝杆、以及与水平丝杆连接的伺服电机；

竖直伸缩机构，其包括竖直连接在水平滑块上的支撑块和连接在支撑块上的可伸缩机械臂；

洁净处理机构，其包括连接在可伸缩机械臂顶端的水平支撑臂、连接在水平支撑臂末端的用于擦拭光学元件的擦拭机构、连接在水平支撑臂上的无尘布传送机构、以及连接在支撑块上的无尘布收集机构；其中，无尘布传送机构上的无尘布绕过擦拭机构后收集在无尘布收集机构上；

酒精擦拭辅助机构，其包括酒精壶和与酒精壶连通的抽送泵，所述抽送泵的输出端通过导管连接至擦拭机构。

5.如权利要求4所述的用于光学元件在线表面洁净监测和处理的装置，其特征在于，所述导轨单元为顶面敞开的箱体结构；水平滑块设置在箱体结构内，且所述水平滑块的底部设置有辅助滑行轮，所述水平滑块的侧面与箱体结构的侧壁留有一定间隙；所述箱体结构的底部设置有供辅助滑行轮滑动的滑行轨道；所述水平丝杆贯穿水平滑块后转动连接在箱体结构的内壁上；且所述伺服电机位于箱体结构的外部。

6.如权利要求4所述的用于光学元件在线表面洁净监测和处理的装置，其特征在于，所述可伸缩机械臂为电动伸缩杆、气缸、机械伸缩杆、伺服电动缸中的任意一种。

7.如权利要求4所述的用于光学元件在线表面洁净监测和处理的装置，其特征在于，所述擦拭机构包括：固定在水平支撑臂末端的U型支架和安装在U型支架上的圆柱体擦拭轮，所述圆柱体擦拭轮的表面沿轴向设置有酒精注入缝；所述抽送泵的输出端通过导管连接至圆柱体擦拭轮的酒精注入缝。

8.如权利要求4所述的用于光学元件在线表面洁净监测和处理的装置，其特征在于，所述的无尘布传送机构包括：输送电机、连接在输送电机的电机轴上的无尘布缠绕轴、以及连接在无尘布缠绕轴上夹持无尘布的两块轮盘。

9.如权利要求4所述的用于光学元件在线表面洁净监测和处理的装置，其特征在于，所述的无尘布收集机构包括：收纳电机和连接在收纳电机的电机轴上的脏无尘布缠绕轴。