[实用新型]一种采用可控硅半波整流的电磁振动给料机控制系统

说明书

本实用新型公开了一种采用可控硅半波整流的电磁振动给料机控制系统，包括220V电源，220V电源一端连接有钮子开关K的一端，钮子开关K的另一端连接有熔断器RD一端，220V电源另一端和熔断器RD另一端连接有变压器B一端，变压器B另一端连接有信号灯HD。具有以下优点：采用半波整流，电磁线圈由交流电经二极管整流供电，振动体便以交流电的频率往复振动，振动体的周期性高频振动，实现自动调节给料量,提高系统工作效率。

技术领域

本实用新型涉及一种采用可控硅半波整流的电磁振动给料机控制系统，属于电子设备技术领域。

背景技术

可控硅,一般由两晶闸管反向连接而成.它的功用不仅是整流，还可以用作无触点开关以快速接通或切断电路，实现将直流电变成交流电的逆变，将一种频率的交流电变成另一种频率的交流电。具有体积小、效率高、稳定性好、工作可靠的优点。

申请人河池市技术开发中心于2016年11月30日申请了一项申请号为CN201611084814.3的发明专利，该发明公开了 一种可控硅电磁振动给料机的给料工艺，包括以下步骤，首先由料槽、联结叉、衔接铁和料槽中的物料组成点M1，振动器壳体、铁芯、线圈组成质点M2，两个质点用弹簧板联结在一起；电磁振动器的线圈由单相交流电源经可控硅整流后供电，当可控硅在交流电的正半周被触发导通时，线圈通过脉动电流，铁芯和衔接铁之间产生脉冲电磁力互吸引，料槽向后运动；电源经负半周时，可控硅承受反向电压而关断，线圈中无电流通过，电磁吸力消失，衔接铁弹离铁芯，料槽向前运动，料槽以交流电源的频率往复运动，物料的仰起和落下在1/50秒内完成，料槽中的物料呈抛物线连续向前微跃运动。具有给料均匀，维修方便，结构合理坚固的特点。

上述发明能够保证给料过程的均匀，而无法解决现有技术中自动调节给料量, 提高系统工作效率的问题。

发明内容

本实用新型的目的就是为了解决上述问题，提供一种采用可控硅半波整流的电磁振动给料机控制系统，采用半波整流，电磁线圈由交流电经二极管整流供电，振动体便以交流电的频率往复振动，振动体的周期性高频振动，实现自动调节给料量, 提高系统工作效率。

为了解决上述问题，本实用新型采用以下技术方案：

一种可控硅半波整流控制系统，包括220V电源，220V电源一端连接有钮子开关K的一端，钮子开关K的另一端连接有熔断器RD一端，220V电源另一端和熔断器RD另一端连接有变压器B一端，变压器B另一端连接有信号灯HD；变压器B另一端连接有二极管1GZ一端，二极管1GZ另一端连接有电阻R1一端，电阻R1另一端连接有电容C3一端、可控硅KGZ一端，可控硅KGZ另一端接地，电容C3另一端连接有二极管4GZ一端，二极管4GZ另一端接地；变压器B另一端连接有二极管2GZ一端，二极管2GZ另一端连接有电阻R2一端，电阻R2另一端连接有稳压管1WG一端，稳压管1WG另一端连接有稳压管2WG一端，稳压管2WG另一端接地。

进一步的，所述控制系统还包括二极管3GZ，二极管3GZ一端连接有电阻R3一端、电解电容C1一端，电阻R3另一端连接有电位器W1一端，电位器W1另一端连接有电位器W2一端，电位器W2另一端接地，电位器W1连接有话筒插孔2CZ一端，话筒插孔2CZ另一端接地，电解电容C1另一端接地。

进一步的，所述控制系统还包括电阻R6，电阻R6一端连接有二极管3GZ和电阻R2，电阻R6另一端连接有三极管2BG的基极和三极管1BG的集电极，三极管1BG的基极连接有电阻R4一端，三极管1BG的发射极连接有电阻R6一端，电阻R6另一端接地，三极管2BG的集电极连接有电位器W3一端，电位器W3另一端连接有二极管3GZ，三极管2BG的发射极连接有电容C2一端，电容C2另一端接地。

进一步的，所述控制系统还包括单结晶体管3BG，单结晶体管3BG连接有电阻R7一端、三极管2BG的发射极、电阻R8一端、可控硅KGZ，电阻R8另一端接地，电阻R7另一端连接二极管3GZ。