[实用新型]一种上釉均匀的陶瓷上釉装置

权利要求书

1.一种上釉均匀的陶瓷上釉装置，包括工作台（1）、外喷机构（2）、内喷机构（3）和固定机构（4），所述工作台（1）的顶部一侧连接有支撑罩（5），所述外喷机构（2）设置在支撑罩（5）的一侧，所述内喷机构（3）设置在工作台（1）的中央，所述固定机构（4）设置在内喷机构（3）的正上方，其特征在于：所述外喷机构（2）包括釉浆桶（21）、第一增压泵（22）、软管（23）、金属分流管（24）、喷头一（25）、阀门（26）和调节支架（27），所述第一增压泵（22）的进水口与釉浆桶（21）的排水口连接，所述第一增压泵（22）远离釉浆桶（21）的排水口的一侧与软管（23）的一端连接，所述软管（23）远离第一增压泵（22）的一端与金属分流管（24）的一端连接，所述喷头一（25）连接在金属分流管（24）远离软管（23）的一端，所述阀门（26）设置在金属分流管（24）的一侧；

所述内喷机构（3）包括支撑台（31）、电机（32）、金属喷管（33）、输浆管（34）、收浆槽（35）和第二增压泵（36），所述支撑台（31）的底部与电机（32）的输出轴的顶部连接，所述金属喷管（33）的底部与输浆管（34）的顶部连接，所述输浆管（34）远离金属喷管（33）的一端延伸至收浆槽（35）内，所述收浆槽（35）设置在支撑台（31）的顶部四周，第二增压泵（36）连接在输浆管（34）远离金属喷管（33）的一侧；

所述固定机构（4）包括电动推杆（41）、连接块（43）、转筒（44）、橡胶垫（45）和固定板（42），所述连接块（43）的顶部与电动推杆（41）的底部连接，连接块（43）的底部卡接在转筒（44）内，固定板（42）的顶部与转筒（44）的底部连接，橡胶垫（45）的顶部与固定板（42）的底部粘接。

2.根据权利要求1所述的一种上釉均匀的陶瓷上釉装置，其特征在于：所述调节支架（27）包括T形滑块（271）、支撑架（272）、螺纹套管（273）和T形滑槽（274），所述T形滑块（271）连接在支撑架（272）的顶部，所述T形滑槽（274）开设在支撑罩（5）的顶部一侧，所述支撑架（272）的底部连接在金属分流管（24）的一侧，所述螺纹套管（273）与支撑架（272）的顶部外表面螺纹连接。

3.根据权利要求2所述的一种上釉均匀的陶瓷上釉装置，其特征在于：所述T形滑槽（274）的宽度为螺纹套管（273）的外径的二分之一。

4.根据权利要求1所述的一种上釉均匀的陶瓷上釉装置，其特征在于：所述金属喷管（33）的顶部为弧形，且金属喷管（33）的外表面均匀分布有喷头二。

5.根据权利要求1所述的一种上釉均匀的陶瓷上釉装置，其特征在于：所述金属喷管（33）的底部固定在支撑台（31）的顶部正中央，电动推杆（41）位于金属喷管（33）的正上方。

6.根据权利要求1所述的一种上釉均匀的陶瓷上釉装置，其特征在于：所述支撑台（31）内开设有空腔，第二增压泵（36）位于支撑台（31）内的空腔内，输浆管（34）贯穿支撑台（31）内的空腔。

7.根据权利要求1所述的一种上釉均匀的陶瓷上釉装置，其特征在于：所述连接块（43）的底部为圆弧形，转筒（44）的底部内壁开设有与连接块（43）的底部相适配的弧形槽。