[实用新型]光处理装置的控制系统、发光装置及硅胶表面处理装置

说明书

本实用新型涉及一种光处理装置的控制系统、发光装置及硅胶表面处理装置，用于调节光源的温度和功率，其特征在于，所述光处理装置的控制系统包括：光处理装置、温度控制模块和功率控制模块。上述光处理装置的控制系统、发光装置及硅胶表面处理装置使用温度检测单元和功率检测单元对光源的温度及功率进行检测，并通过温度控制单元和功率控制单元对温度调节单元和功率调节单元对光源的温度和功率进行调节，从而使光源维持在低温状态，对光源起到了较好的保护作用，也保证所处理产品表面满足要求的处理温度，从而提高所处理产品的高通过率，同时使光源辐射的紫外光线维持在要求的稳定数值，保证硅胶产品表面处理性能的一致性。

技术领域

本实用新型涉及光处理技术领域，特别是涉及一种光处理装置的控制系统、发光装置及硅胶表面处理装置。

背景技术

紫外线除用来消毒和杀菌外，广泛应用在硅胶的表面处理。硅胶的表面处理是采用臭氧和紫外光线等产生的一系列复杂的反应，使硅胶表面满足一定的要求。

在硅胶产品表面处理的时候，需要光源辐射稳定功率的紫外波段的光线，并且为保护硅胶产品内部的电子电路或者硅胶产品的温度，需要硅胶产品辐射面的温度不能超过一定的界限，而光源在工作的过程中，本体的温度会升高，光源本体温度的升高会造成光源的寿命减少，同时辐射到硅胶产品表面的热量会增高，造成硅胶产品辐射面温度的升高；另外，在硅胶产品表面处理的过程中，光源的紫外波段的光线是一种衰减的曲线，无法稳定输出，会导致硅胶产品表面处理性能不一致。

实用新型内容

基于此，有必要针对光源在工作的过程中，本体的温度会升高，光源本体温度的升高会造成光源的寿命减少，同时辐射到硅胶产品表面的热量会增高，造成硅胶产品辐射面温度的升高和在硅胶产品表面处理的过程中，光源的紫外波段的光线是一种衰减的曲线，无法稳定输出，会导致硅胶产品表面处理性能不一致问题，提供一种光处理装置的控制系统、发光装置及硅胶表面处理装置。

一种光处理装置的控制系统，光处理装置包括选择性的吸收或透过光源光线的液态介质,用于对光源的光进行处理,所述光处理装置的控制系统包括：

温度控制模块，

所述温度控制模块包括温度检测单元、温度控制单元和温度调节单元；

所述温度检测单元与所述温度控制单元相连，以将检测的所述光源和/或液态介质的温度信息传送给所述温度控制单元；

所述温度控制单元与温度调节单元连接，以根据所述温度信息控制温度调节单元调节所述液态介质的温度。

在其中一个实施例中，所述光处理装置的控制系统还包括功率控制模块，

所述功率控制模块包括功率检测单元、功率控制单元和功率调节单元；

所述功率检测单元与所述功率控制单元相连，以将检测的所述光源和/或透过液态介质的光线的功率信息传送给所述功率控制单元；

所述功率控制单元与所述功率调节单元连接，以根据所述功率信息控制功率调节单元调节所述光源的功率。

在其中一个实施例中，所述光处理装置还包括壳体，所述壳体包括出光面，所述光源与所述出光面之间有液态介质，所述光源发出的光通过液态介质选择性的吸收或透过后从出光面透出。

在其中一个实施例中，所述温度检测单元包括温度传感器，所述温度传感器设置于所述液态介质中。

在其中一个实施例中，所述温度检测单元与所述温度控制单元通过温度传感器信号相连。

在其中一个实施例中，所述温度调节单元包括散热流道，所述散热流道包括传输管道、液体泵和散热器，所述液体泵和散热器设置于所述传输管道上，所述液体泵将所述液态介质送入所述传输管道一端，经过所述散热器散热后从传输管道另一端输出。