[实用新型]一种用于生产窄分布聚醚的乙氧基化设备

权利要求书

1.一种用于生产窄分布聚醚的乙氧基化设备，包括圆筒状密闭的反应器，其特征在于，所述反应器内设置有用以雾化起始剂的雾化器，所述雾化器包括外壳体，所述外壳体呈上小下大的喇叭状，其顶面开设有溶液入口；所述外壳体内部设有溶液通道，所述溶液通道的底面为弧面，所述溶液通道的底面均匀设置有数个雾化喷嘴座以形成不同的喷射通道，所述雾化喷嘴座伸出所述外壳体外部，其头端安装有雾化喷嘴。

2.根据权利要求1所述的用于生产窄分布聚醚的乙氧基化设备，其特征在于，所述反应器包括圆柱形的第一部，所述第一部向外扩形成带有圆弧的连接部，所述连接部的下端向下延伸形成圆柱形的第二部，所述雾化器设置在所述第一部内，且所述雾化器端头与所述第一部和第二部的连接处平齐。

3.根据权利要求1所述的用于生产窄分布聚醚的乙氧基化设备，其特征在于，所述雾化喷嘴具有进液端并与所述雾化喷嘴座连通，其还具有出液端用于雾化后的起始剂喷出，所述出液端内置有三叶式斜纹旋转结构的旋转子。

4.根据权利要求3所述的用于生产窄分布聚醚的乙氧基化设备，其特征在于，所述出液端设置有旋流腔，所述旋转子内置于所述旋流腔内，所述雾化喷嘴与所述雾化喷嘴座螺纹连接。

5.根据权利要求4所述的用于生产窄分布聚醚的乙氧基化设备，其特征在于，所述旋转子为柱状结构，所述旋转子外周表面紧贴所述旋流腔的内表面，所述旋转子的外周表面沿轴向设置有三个斜纹旋转的旋沟槽。

6.根据权利要求1所述的用于生产窄分布聚醚的乙氧基化设备，其特征在于，所述溶液通道的内壁设置为光滑过渡的双曲面弧面，用以减少起始剂流动的阻力。

7.根据权利要求1所述的用于生产窄分布聚醚的乙氧基化设备，其特征在于，所述反应器还包括设置于反应器外部并与所述反应器顶部连通的加压器，设置于所述反应器中上部的催化剂入口和气体入口，设置于所述反应器下端部的反应器底出口。