[实用新型]底吹精炼炉有效
申请号: | 201821757249.7 | 申请日: | 2018-10-26 |
公开(公告)号: | CN209098770U | 公开(公告)日: | 2019-07-12 |
发明(设计)人: | 李锋;尉克俭;李鸿飞;李兵;曹珂菲;郝小红;冯双杰;陆金忠;李晓霞;李海春;刘恺;李栋;许欣 | 申请(专利权)人: | 中国恩菲工程技术有限公司 |
主分类号: | C22B15/14 | 分类号: | C22B15/14 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 宋合成 |
地址: | 100038*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 底吹 回转炉壳体 精炼炉 氧化还原 铜口 转炉 炉膛空间 透气砖 粗铜 炉口 氮气 本实用新型 单独设置 精炼效果 精炼周期 炉体结构 能耗损失 设备成本 出烟口 燃烧器 侧壁 伸入 中段 精炼 体内 | ||
1.一种底吹精炼炉,其特征在于,包括:
回转炉,所述回转炉包括:
回转炉壳体,所述回转炉壳体内限定出炉膛空间;
炉口,所述炉口设在所述回转炉壳体中段的上部;
进铜口,所述进铜口设在所述回转炉壳体上;
出铜口,所述出铜口设在所述回转炉壳体端部的侧壁上;
底吹氧化还原枪,所述底吹氧化还原枪设在所述回转炉壳体底部且伸入所述炉膛空间内,其中,所述底吹氧化还原枪的直径为38~75cm。
2.根据权利要求1所述的底吹精炼炉,其特征在于,所述底吹氧化还原枪为多孔底吹氧化还原枪。
3.根据权利要求1或2所述的底吹精炼炉,其特征在于,沿所述回转炉的径向方向上,所述底吹氧化还原枪和所述出铜口设在所述炉口的两侧,且沿所述回转炉壳体圆周方向上,所述出铜口与所述炉口的距离小于所述炉口与所述底吹氧化还原枪的距离。
4.根据权利要求1所述的底吹精炼炉,其特征在于,包括多个所述底吹氧化还原枪,所述多个底吹氧化还原枪沿所述回转炉壳体的长度方向对称设置在所述炉口两侧。
5.根据权利要求4所述的底吹精炼炉,其特征在于,包括2-6个所述底吹氧化还原枪。
6.根据权利要求1所述的底吹精炼炉,其特征在于,在底吹精炼炉的氧化还原位置,所述底吹氧化还原枪与所述回转炉壳体交点到所述回转炉中心的连线与所述回转炉垂直中心线的角度为-30~60度。
7.根据权利要求6所述的底吹精炼炉,其特征在于,所述底吹氧化还原枪与所述回转炉壳体交点到所述回转炉中心的连线与所述回转炉垂直中心线的角度为-15~30度。
8.根据权利要求6或7所述的底吹精炼炉,其特征在于,所述底吹氧化还原枪的延伸方向与所述连线的角度为0~45度。
9.根据权利要求1所述的底吹精炼炉,其特征在于,所述进铜口设在所述回转炉壳体上所述出铜口相对的另一端部上。
10.根据权利要求9所述的底吹精炼炉,其特征在于,所述进铜口设在所述回转炉壳体上所述出铜口相对的另一端部炉体上部的侧壁上。
11.根据权利要求9所述的底吹精炼炉,其特征在于,所述进铜口设在所述回转炉壳体端部的端壁上,且在竖直方向上所述进铜口设在所述炉体端壁的中心位置及以上部位。
12.根据权利要求9或11所述的底吹精炼炉,其特征在于,所述进铜口设在所述回转炉壳体端部的端壁上,在竖直方向上所述进铜口在炉体中心线以上且与所述回转炉壳体水平中心线的距离不超过400mm。
13.根据权利要求9所述的底吹精炼炉,其特征在于,所述回转炉壳体进一步包括燃烧器口,所述燃烧器口设在所述回转炉壳体上靠近所述出铜口的端部的端壁上,所述燃烧器口设置有燃烧器。
14.根据权利要求9所述的底吹精炼炉,其特征在于,所述回转炉壳体进一步包括出烟口,所述出烟口设在所述回转炉壳体上靠近所述进铜口的炉体端部。
15.根据权利要求13或14所述的底吹精炼炉,其特征在于,所述出烟口可以设在所述回转炉壳体靠近所述进铜口位置的炉体上部的侧壁上,且沿所述回转炉的径向方向上,所述出烟口位于所述炉口与所述底吹氧化还原枪之间,并靠近所述炉口处。
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