[实用新型]连续余膏控制装置

权利要求书

1.一种连续余膏控制装置，包括机架（1），其特征在于：机架（1）内中间设有传送装置，传送装置包括转动辊（2）和皮带（3），转动辊（2）设置在机架（1）两端，皮带（3）设置在转动辊（2）之间，机架（1）两侧设置滑动槽（4），转动辊（2）两端设有转轴（5），转轴（5）设置在滑动槽（4）内，滑动槽（4）内设有皮带调节装置，传送装置左端上方设有压膏辊（6），压膏辊（6）两端设有升降块（7），机架（1）左端两侧设有丝杆（8），升降块（7）与丝杆（8）连接，机架（1）右端设有上膏辊（9），上膏辊（9）上下对称设有两个，上膏辊（9）右侧设有出膏口（10），出膏口（10）上设有调节块（11），出膏口（10）下端设有放置台（12）。

2.如权利要求1所述的连续余膏控制装置，其特征在于：皮带调节装置包括压缩杆（13）、挤压杆（14）、调节杆（15），压缩杆（13）设有两个，压缩杆（13）对称设置在滑动槽（4）两端，滑动槽（4）与转轴（5）外侧接触，挤压杆（14）设有两个，挤压杆（14）对称设置在滑动槽（4）中间，挤压杆（14）与转轴（5）内侧接触，调节杆（15）设置在挤压杆（14）之间。

3.如权利要求1所述的连续余膏控制装置，其特征在于：机架（1）两端设有传送辊（16），机架（1）左端设有下料板（17）。

4.如权利要求1所述的连续余膏控制装置，其特征在于：放置台（12）两侧设有挡板（18），挡板外侧设有推动块（19）。