[实用新型]一种光掩膜清洗装置

说明书

本实用新型公开了一种光掩膜清洗装置，包括进液管，所述进液管为两个，在两个进液管的末端具有一段混合管，每一个所述进液管上安装气阀，所述混合管内部具有螺旋导流片，所述混合管末端安装液帘喷头。本实用新型是一种清洗光掩膜上有机污染物的改进装置，可以在更近的距离内完成工作，使清洗更加精确与彻底，并且不会产生液体飞溅的问题。

技术领域

本实用新型属于光掩膜清洗技术领域，特别涉及一种光掩膜清洗装置，用于清洗光掩膜表面的有机污染物。

背景技术

光掩膜在本行业中亦称之为MASK，其是刻有微电路的高精度板，光掩膜用于芯片的制造，光刻微电路通过该光掩膜在芯片上进行显影。因此光掩膜的清洁程度是决定芯片功能性的一个重要因素。

在现有技术中，由于光掩膜的微电路是通过铬蚀刻而成，因此需要采用化学试剂进行清洗。SPM，即硫酸和过氧化氢的混合液，是目前光掩膜清洗的主要手段，主要作用即为去除其上的有机污染物，两种试剂同时也具有较高的温度和很强的氧化性及腐蚀性。将两种试剂混合并喷洒至光掩膜表面上的清洗装置极为重要。

目前的清洗装置存在一定的问题，主要包括：第一，未设置专用的试剂喷洒喷头，在SPM两种试剂混合后，通过一个开关将普通管道中的混合液喷出，喷液面积小，布满整个光掩膜表面的行程过长，花费时间也较长，耗液量大；第二，在一次使用完成后，混合管道中仍然存在混合液，由于硫酸与过氧化氢混合后产生大量气体，使用完毕后残留的气体无法排除，在设备第二次开启时，管内压力过大，在清洗初期会产生液体飞溅，损坏微电路的问题；第三，非专用设备试剂混合位置安排不合理，SPM并非最佳使用温度，削弱了去除有机物的能力。

实用新型内容

本实用新型提供一种光掩膜清洗装置，合理的改进喷头结构，合理的改进混合管内部结构，在与光掩膜更近距离的位置进行精确的清洗。

本实用新型是通过以下的技术方案实现的：

一种光掩膜清洗装置，包括进液管，所述进液管为两个，在两个进液管的末端具有一段混合管，每一个所述进液管上安装气阀，所述混合管内部具有螺旋导流片，所述混合管末端安装出液装置。

所述螺旋导流片从混合管的入口处一直延伸至混合管的末端。

所述出液装置为液体喷洒装置。

所述液体喷洒装置具有喷洒本体，在所述喷洒本体上设置有垂直延伸的若干喷嘴。

本实用新型的有益效果是：

1.本实用新型设计了一个专门的出液喷洒装置，出液均匀，出液方向垂直，可以更近距离的对光掩膜进行清洗工作，工作更加精确、均匀；

2.节约了一定的混合时间，保持了SPM的最佳工作温度，提升了去脏能力；

3.试剂不会产生飞溅，设备维护方便。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

图中的附图标记为：

1-硫酸进液管，2-过氧化氢进液管，3-气阀，4-混合管，5-螺旋导流片，6-喷洒本体，7-喷嘴。

具体实施方式

以下结合上述附图，对本实用新型做进一步说明。