[实用新型]二次结构墙体有效

专利信息
申请号: 201821767082.2 申请日: 2018-10-30
公开(公告)号: CN209353507U 公开(公告)日: 2019-09-06
发明(设计)人: 王乐园;谭建国;李晶;王景祥;谢强;周明望;张建波;柳贵林;赵镇 申请(专利权)人: 中国建筑第八工程局有限公司
主分类号: E04B2/00 分类号: E04B2/00;E04C3/02
代理公司: 上海唯源专利代理有限公司 31229 代理人: 曾耀先
地址: 200122 上海市浦东新区中国*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 墙体 过梁 预留 电箱 二次结构 容置口 渗漏 本实用新型 供电箱 穿设 封堵 墙面 围合 拼接 连通 工作量 电线 修补 填补
【权利要求书】:

1.一种二次结构墙体,其特征在于,包括:

墙体本体,开设有预留洞;以及

设于所述预留洞内,且拼接于所述墙体本体的过梁结构,所述过梁结构和所述墙体本体围合形成供放置电箱的容置口,所述过梁结构开设有连通于所述容置口,且供所述电箱的电线穿设的凹槽。

2.如权利要求1所述的二次结构墙体,其特征在于,所述墙体本体的相对两侧面均与所述过梁结构的对应的侧面齐平。

3.如权利要求1所述的二次结构墙体,其特征在于,所述过梁结构为门型结构,所述门型结构包括一体形成的一对竖向段和横向固定于一对所述竖向段的横向段,一对所述竖向段竖向相对设置于所述预留洞内,且拼接于所述墙体本体,所述横向段横向设于所述预留洞内,且拼接于所述墙体本体。

4.如权利要求3所述的二次结构墙体,其特征在于,所述凹槽沿着所述横向段的底面的长度方向开设,凹槽的长度和宽度均对应小于横向段的底面的长度和宽度。

5.如权利要求3所述的二次结构墙体,其特征在于,所述凹槽的深度和横向段的高度一致。

6.如权利要求1所述的二次结构墙体,其特征在于,所述过梁结构和所述墙体本体通过砂浆层固定连接。

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