[实用新型]防伪结构、全息烫印防伪膜有效
申请号: | 201821780076.0 | 申请日: | 2018-10-30 |
公开(公告)号: | CN209028338U | 公开(公告)日: | 2019-06-25 |
发明(设计)人: | 黄燕燕;王笑冰;周海滨;周菲菲 | 申请(专利权)人: | 深圳市深大极光科技有限公司 |
主分类号: | G02B27/22 | 分类号: | G02B27/22;G02B27/42;G09F3/02 |
代理公司: | 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙) 44316 | 代理人: | 曹卫良 |
地址: | 518132 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 防伪结构 高频光栅 浮雕结构 结构层 本实用新型 防伪力度 防伪效果 浮雕图像 互不干扰 直接附着 彩虹色 防伪膜 金属感 纳米级 微米级 衍射光 全息 观察 色散 烫印 图像 | ||
1.一种防伪结构,其特征在于,包括:低频浮雕结构层及附着在所述低频浮雕结构层上的高频光栅结构层,所述低频浮雕结构层的空间频率范围为20-125线/mm,所述高频光栅结构层的空间频率范围为1000-3000线/mm。
2.如权利要求1所述的防伪结构,其特征在于,所述低频浮雕结构层的高度比所述高频光栅结构层的高度大6倍以上,所述低频浮雕结构层的高度小于2.5μm。
3.如权利要求1所述的防伪结构,其特征在于,所述低频浮雕结构层的剖面为锯齿形或正弦形,所述高频光栅结构层的剖面为正弦形或矩形。
4.如权利要求1所述的防伪结构,其特征在于,所述低频浮雕结构层的二维分布是等高线图或光栅点阵。
5.如权利要求1所述的防伪结构,其特征在于,所述高频光栅结构层的分布是一维等周期的光栅或光栅点阵。
6.如权利要求1所述的防伪结构,其特征在于,所述高频光栅结构层的厚度为30nm-400nm之间,所述低频浮雕结构层的厚度在0.3μm-2.5μm之间。
7.一种全息烫印防伪膜,其特征在于,包括:依次层叠设置的基膜、离型层、低频浮雕结构层、高频光栅结构层、镀层及背胶层,所述低频浮雕结构层的空间频率范围为20-125线/mm,所述高频光栅结构层的空间频率范围为1000-3000线/mm。
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