[实用新型]一种清洗沉积在掩膜盖板表面的ITO薄膜的装置

说明书

本实用新型属于HIT电池ITO导电薄膜清洗技术领域，本实用新型公开了一种清洗沉积在掩膜盖板表面的ITO薄膜的装置，包括酸洗腔室、喷淋腔室和风淋烘干腔室；风淋烘干腔室包括风淋腔室和烘干腔室；酸洗腔室、喷淋腔室、风淋腔室和烘干腔室依次连接；酸洗腔室上设有储酸装置；喷淋腔室上设有去离子水储存装置；风淋腔室上设有高压空气存储装置；烘干腔室上设有加热装置，器具依次通过酸洗腔室、喷淋腔室、风淋腔室和烘干腔室后除去ITO薄膜。本实用新型具有减少备件需求量、减少筛选脱膜掩膜盖的人力和降低了人力与物力成本的特点。

技术领域

本实用新型属于HIT电池ITO导电薄膜清洗技术领域，具体涉及一种清洗沉积在掩膜盖板表面的ITO薄膜的装置。

背景技术

HIT(Heterojunction with intrinsic Thinlayer)太阳能电池，是一种利用晶体硅衬底和非晶硅薄膜制成的混合型太阳能电池，具有制备工艺温度低、转换效率高、高温特性好等特点，是一种低价高效的太阳能电池。

现有的HIT电池是需要在N型和P型非晶硅薄膜外利用磁控溅射的方法，沉积一层导电薄膜，其中最常见的即为ITO薄膜，最后再导电薄膜的表面制作电极。其中对于导电薄膜的要求是分别与N型与P型非晶硅接触，且在电池片的四周不能有任何的接触，否则会导致电池片的短路，造成报废。现有的技术是在磁控溅射沉积ITO的过程中利用掩膜盖，对电池片的四周进行0.5-0.7mm的掩膜，阻止ITO溅射沉积在电池片的四周。

其主要缺点就是掩膜盖随着溅射沉积的次数逐渐增加，掩膜盖上会沉积一层较厚的ITO膜层。随着厚度的增加，膜层的附着力会逐渐下降。从掩膜盖上脱落的膜层，掉落在电池片上会遮挡电池片，并形成为镀膜的斑状区域，引起电池片不良与报废。定期的对沉积膜层较厚的掩膜盖进行清洗，一方面工艺较难，清洗周期较长，需要准备大量备件，另一方面需要随时人为进行判定与更换，人力成本过高。

实用新型内容

为了解决现有技术存在的上述问题，本实用新型目的在于提供一种清洗沉积在掩膜盖板表面的ITO薄膜的装置。

本实用新型所采用的技术方案为：

一种清洗沉积在掩膜盖板表面的ITO薄膜的装置，包括酸洗腔室、喷淋腔室和风淋烘干腔室；所述风淋烘干腔室包括风淋腔室和烘干腔室；所述酸洗腔室、喷淋腔室、风淋腔室和烘干腔室依次连接；所述酸洗腔室上设有储酸装置；所述喷淋腔室上设有去离子水储存装置；所述风淋腔室上设有高压空气存储装置；所述烘干腔室上设有加热装置，所述器具依次通过酸洗腔室、喷淋腔室、风淋腔室和烘干腔室后除去ITO薄膜。

进一步的，所述酸洗腔室、喷淋腔室和风淋腔室还分别连有废液回收装置，所述烘干腔室还连有真空泵组。

进一步的，所述酸洗腔室内设有雾化装置和第一传送带；所述雾化装置包括耐酸管道和设于耐酸管道上的若干个雾化出口，每个雾化出口上设有雾化器；所述管道与储酸装置相通；所述第一传送带设于雾化器的下方；所述第一传送带下方设有第一废液引流机构；所述第一废液引流机构为具有第一斜面的三角形结构；所述废液回收装置包括第一废液回收室；第一斜面的低端与第一废液回收室连通。

进一步的，所述喷淋腔室内设有通水管道和第二传送带；所述通水管道与去离子水储存装置连接；所述通水管道上设有若干个出水口，每个出水口上设有出水喷头；所述第二传送带设于出水喷头的下方，第二传送带的下方设有第二废液引流机构；所述第二废液引流机构为具有第二斜面的三角形结构；所述废液回收装置还包括第二废液回收室；第二斜面的低端与第二废液回收室连通；第二传送带的一端伸入第一传送带一端的下方。