[实用新型]具有对位温控功能的平台

说明书

本实用新型提供了一种具有对位温控功能的平台，所述具有对位温控功能的平台包括导热台面；定位单元，所述定位单元侦测所述导热台面上外界物的位置；温度调节单元，所述温度调节单元呈阵列式地设置在所述导热台面的上侧或下侧；测温单元，所述测温单元呈阵列式地设置在所述导热台面的上侧或下侧。本实用新型能够根据需要地实现局部温控、温控区域稳定。

技术领域

本实用新型涉及温度控制，特别涉及具有对位温控功能的平台。

背景技术

由于IVF工作站的加热台面方式都是采用台面整个区域或者分区加热，这加大了整个台面温控一致性的问题。且在实际的应用操作中，加热区域需求只要满足培养皿放置贴合的台面区域，这造成了台面其他没接触面的无效传热，使得热量浪费严重，并且过多的非接触区域暴露，导致培养皿的真实控温效果不佳。IVF台面加热区域的测温采用固定的温度传感器，所反馈的实时温度值并非培养皿底部的真实加热温度，无法实现对培养皿区域的精准控温，从而导致用户体验效果差。

目前对于IVF工作站台面加热方式采用整块电阻式加热片分区加热，实现加热区域的单独分割，受制于分割加热片分割的大小，且在分割的交界处无法实现加热控温，也很难实现精准的按任意接触图形加热；并且加热片无温度检测反馈，没有实现闭环控制。

实用新型内容

为解决上述现有技术方案中的不足，本实用新型提供了一种具有对位温控功能的平台，能够根据需要地仅对特定区域温控。

本实用新型的目的是通过以下技术方案实现的：

一种具有对位温控功能的平台，所述具有对位温控功能的平台包括导热台面；所述具有对位温控功能的平台进一步包括：

定位单元，所述定位单元侦测所述导热台面上外界物的位置；

温度调节单元，所述温度调节单元呈阵列式地设置在所述导热台面的上侧或下侧；

测温单元，所述测温单元呈阵列式地设置在所述导热台面的上侧或下侧。

根据上述的具有对位温控功能的平台，优选地，所述定位单元采用电阻膜或电容膜，铺设在导热台面上。

根据上述的具有对位温控功能的平台，优选地，所述导热台面采用不锈钢。

根据上述的具有对位温控功能的平台，优选地，所述温度调节单元采用电热丝或TEC。

根据上述的具有对位温控功能的平台，优选地，所述温度调节单元呈点阵式或矩阵式设置。

根据上述的具有对位温控功能的平台，可选地，所述定位单元铺设在所述导热台面的上表面，所述温度调节单元设置在所述定位单元和导热台面之间，或者设置在所述导热台面的下表面。

根据上述的具有对位温控功能的平台，优选地，所述测温单元临着所述温度调节单元设置，处于所述导热台面的同一侧。

根据上述的具有对位温控功能的平台，优选地，所述导热台面是IVF工作站台面。

与现有技术相比，本实用新型具有的有益效果为：

1.实现了仅对与待温控部件对应的区域的温度控制，无需对其它区域温控，实现了对位温控功能，控温区域精准；

2.实现了区域温度的闭环控制；

3.结构简单。

附图说明

参照附图，本实用新型的公开内容将变得更易理解。本领域技术人员容易理解的是：这些附图仅仅用于举例说明本实用新型的技术方案，而并非意在对本实用新型的保护范围构成限制。图中：

图1是根据本实用新型实施例1的具有对位温控功能的平台的结构简图。

具体实施方式