[实用新型]一种晶元自动周转上下料设备

说明书

一种晶元自动周转上下料设备，其特征在于包括上料盒定位单元1、晶元机械手2、翻转模组3和上料机械手4，上料盒定位单元1和翻转模组3安装在晶元机械手2的两侧，上料机械手4安装在翻转模组3的上方。所述上料盒定位单元1包括定位台1‑1和上料盒1‑2，上料盒1‑2可放置在定位台1‑1上，上料盒1‑2内放置有晶元。所述翻转模组3包括翻转机构3‑1和周转盒3‑2，周转盒3‑2可放置在翻转机构3‑1的托架上。所述上料机械手4可推动翻转过后的周转盒3‑2到下一工位。优点：实现了晶元的全自动周转，避免了人工转运对晶元造成的污染，节省了人力。

技术领域

本实用新型涉及的是一种晶元自动周转上下料设备，属于机械自动化技术领域。

背景技术

晶元在进行镀层的过程中，需要将原来的转载盒转移到专用的镀层盒内，由于晶元表面要求较高，不易人工进行转运，因此需要自动化设备进行转运。

发明内容

本实用新型解决的是如何实现晶元自动转移到镀层周转盒内进行镀层。

本实用新型采用的技术方案：一种晶元自动周转上下料设备，其特征在于包括上料盒定位单元1、晶元机械手2、翻转模组3和上料机械手4，上料盒定位单元1和翻转模组3安装在晶元机械手2的两侧，上料机械手4安装在翻转模组3的上方。

优选地，所述上料盒定位单元1包括定位台1-1和上料盒1-2，上料盒1-2可放置在定位台1-1上，上料盒1-2内放置有晶元。

优选地，所述翻转模组3包括翻转机构3-1和周转盒3-2，周转盒3-2可放置在翻转机构3-1的托架上。

优选地，所述上料机械手4可推动翻转过后的周转盒3-2到下一工位。

本实用新型的优点：实现了晶元的全自动周转，避免了人工转运对晶元造成的污染，节省了人力。

附图说明

图1是一种晶元自动周转上下料设备的立体图。

图2是上料盒定位单元的立体图。

图3是晶元机械手的立体图。

图4是翻转模组的立体图。

图5是上料机械手的立体图。

图中，1是，1-1是定位台，1-2是上料盒，2是晶元机械手，3是翻转模组，3-1是翻转机构，3-2是周转盒，4是上料机械手。

具体实施方式

如图1所示，一种晶元自动周转上下料设备，其特征在于包括上料盒定位单元1、晶元机械手2、翻转模组3和上料机械手4，上料盒定位单元1和翻转模组3安装在晶元机械手2的两侧，上料机械手4安装在翻转模组3的上方。

如图2所示，上料盒定位单元1包括定位台1-1和上料盒1-2，上料盒1-2可放置在定位台1-1上，上料盒1-2内放置有晶元。

如图4所示，翻转模组3包括翻转机构3-1和周转盒3-2，周转盒3-2可放置在翻转机构3-1的托架上。

如图5所示，上料机械手4可推动翻转过后的周转盒3-2到下一工位。

具体工作流程：

首先，人工将载有晶元的上料盒1-2放置在定位台1-1上，并将空置的周转盒3-2放置在翻转机构3-1的托架上；其次，晶元机械手2启动，依次吸取上料盒1-2内的晶元，并转移到空置的周转盒3-2内；转移完成后，翻转机构3-1翻转90°，使周转盒3-2的开口向上；最后，上料机械手4将周转盒3-2转运到下一工序，即晶元镀层设备内。