[实用新型]一种HMDS涂胶机

说明书

本实用新型属于涂胶技术领域，尤其为一种HMDS涂胶机，包括第一箱体，所述第一箱体的底部内壁上固定安装有第二箱体，所述第二箱体的顶部固定安装有氮气箱，所述氮气箱的一侧固定安装有第一连接管，所述第一连接管远离氮气箱的一端固定安装有第一气泵，所述第一气泵远离氮气箱的一侧固定安装有第一进气管，且第一进气管与第二箱体相连通，所述第二箱体的顶部固定安装有真空泵，所述真空泵靠近第一气泵的一侧固定安装有第一出气管，所述第一出气管远离真空泵的一端与第二箱体相连通。本实用新型实用性强，进气速度快，气体与晶片反应及时，反应效率高，可有效防止过热，对晶片进行有效保护。

技术领域

本实用新型涉及涂胶技术领域，尤其涉及一种HMDS涂胶机。

背景技术

HMDS又叫六甲基二硅胺，是无色透明液体，无悬浮物及机械杂质的化学物质，沸点为126度，在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况，将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物，它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。

经检索公开号为CN207021236U的一种HMDS涂布设备，包括壳体，所述壳体内构成涂布腔，所述涂布腔内设置有加热件，还包括用于向涂布腔内输送氮气的第一管道，用于向涂布腔内输送HMDS蒸汽与氮气混合气体的第二管道，用于向涂布腔内输送空气的第三管道，用于从涂布腔向外排气的排气管道和用于对涂布腔抽真空的抽真空管道，所述抽真空管道上设置有真空泵，所述第一管道、第二管道、第三管道、排气管道和抽真空管道分别与涂布腔连通。其保证涂布效果的同时，有效减少HMDS的使用量，避免了废气中HMDS对环境的危害。

但是，其进气速度较慢，导致气体与晶片反应不及时，反应效率低，且不具备温度控制系统，导致温度过高损坏晶片的问题，为此，提出一种HMDS涂胶机。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种HMDS涂胶机。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：一种HMDS涂胶机，包括第一箱体，所述第一箱体的底部内壁上固定安装有第二箱体，所述第二箱体的顶部固定安装有氮气箱，所述氮气箱的一侧固定安装有第一连接管，所述第一连接管远离氮气箱的一端固定安装有第一气泵，所述第一气泵远离氮气箱的一侧固定安装有第一进气管，且第一进气管与第二箱体相连通，所述第二箱体的顶部固定安装有真空泵，所述真空泵靠近第一气泵的一侧固定安装有第一出气管，所述第一出气管远离真空泵的一端与第二箱体相连通，所述真空泵远离第一出气管的一侧固定安装有第二出气管，且第二出气管远离真空泵的一端延伸至第一箱体外，所述第一箱体的底部内壁上固定安装有第三箱体，所述第三箱体的顶部内壁上固定安装有两个连接杆，两个连接杆的底端固定安装有同一个加热棒，所述第三箱体的顶部固定安装有第二气泵，所述第二气泵远离第二箱体的一侧固定安装有第二连接管，且第二连接管远离第二气泵的一端与第三箱体相连通，所述第二气泵远离第二连接管的一侧固定安装有第二进气管，所述第二进气管远离第二气泵的一端与第二箱体相连通，所述第二箱体的两侧内壁上均固定安装有第一加热板，所述第二箱体的顶部内壁上固定安装有第二加热板，所述第二箱体的底部内壁上固定安装有两个支撑杆，两个支撑杆的顶端放置有晶片。

优选的，所述第一进气管内设有第一单向阀，所述第一出气管内设有第二单向阀，所述第二进气管内设有第三单向阀，防止气体回流。

优选的，所述第一箱体的底部四角位置均固定安装有万向轮，便于第一箱体的移动。