[实用新型]硅通孔信号导通控制电路和三维集成电路有效
申请号: | 201821837173.9 | 申请日: | 2018-11-08 |
公开(公告)号: | CN208956012U | 公开(公告)日: | 2019-06-07 |
发明(设计)人: | 杨正杰 | 申请(专利权)人: | 长鑫存储技术有限公司 |
主分类号: | H03K19/0175 | 分类号: | H03K19/0175;H03K19/0185;H01L23/48 |
代理公司: | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人: | 袁礼君;阚梓瑄 |
地址: | 230000 安徽省合肥市*** | 国省代码: | 安徽;34 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 硅通孔 控制电路 信号导通 第一端 导通控制电路 三维集成电路 本实用新型 控制信号 信号传输方式 信号传输能力 信号输出端 信号输入端 输出 第二信号 信号沿 配合 | ||
本实用新型提供一种硅通孔信号导通控制电路和三维集成电路,包括两个信号导通控制电路。第一信号导通控制电路,连接硅通孔的第一端,用于控制信号通过第一端输入至硅通孔内部,或由硅通孔内部通过第一端输出。第二信号导通控制电路,连接硅通孔的第二端,用于控制信号通过第二端输入至硅通孔内部,或由硅通孔内部通过第二端输出。本实用新型硅通孔的任一端都可以作为信号输入端,也可以作为信号输出端。两个端口配合,可以实现信号沿不同的方向传入或传出硅通孔,信号传输方式增多,提高了硅通孔信号传输能力。
技术领域
本实用新型涉及三维集成技术领域,具体而言,涉及一种硅通孔信号导通控制电路和三维集成电路。
背景技术
随着集成电路的不断发展,当半导体工艺器件进展到纳米级别后,进一步利用减小特征尺寸来提高集成度越来越难,而三维集成的堆叠芯片成为另一种提高集成度的可能形式。
硅通孔(Through Silicon Via,TSV)技术是三维集成电路中堆叠芯片实现互连的一种方式,即在硅晶圆或裸芯上适当的位置制作垂直通孔,实现硅晶圆或裸芯之间的电连接。硅通孔技术使芯片在三维方向堆叠的密度更大、芯片之间的互连线更短、外形尺寸更小,制造出结构更复杂、性能更强大、更低成本的芯片。
目前硅通孔的端口只能固定作为信号的输入端或输出端,信号只能沿预定的传输方向传输,功能较单一。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种硅通孔信号导通控制电路,解决现有硅通孔信号传输方向无法调整的问题。
根据本实用新型的一个方面,提供一种硅通孔信号导通控制电路,包括:
第一信号导通控制电路,连接硅通孔的第一端,用于控制信号由集成电路通过所述第一端输入至所述硅通孔内部,或由所述硅通孔内部通过所述第一端输出至集成电路;
第二信号导通控制电路,连接硅通孔的第二端,用于控制信号由集成电路通过所述第二端输入至所述硅通孔内部,或由所述硅通孔内部通过所述第二端输出至集成电路。
在本实用新型的一种示例性实施方式中,所述第一信号导通控制电路和第二信号导通控制电路均包括:
信号输入端和信号输出端,共同连接于所述硅通孔的一端;
第一开关元件,位于所述信号输入端和所述硅通孔的一端之间,用于控制所述信号由所述信号输入端传入所述硅通孔;
第二开关元件,位于所述信号输出端和所述硅通孔的一端之间,用于控制所述信号由所述信号输出端传出所述硅通孔。
在本实用新型的一种示例性实施方式中,所述第一开关元件为第一传输门,所述第二开关元件为第二传输门,所述第一传输门和第二传输门均采用CMOS传输门。
在本实用新型的一种示例性实施方式中,所述第一传输门和第二传输门接受同一互补控制信号。
在本实用新型的一种示例性实施方式中,还包括:反相器,连接所述第一传输门和第二传输门用于产生所述互补控制信号。
在本实用新型的一种示例性实施方式中,所述第一传输门和第二传输门接受不同互补控制信号。
在本实用新型的一种示例性实施方式中,还包括:
第一反相器,连接所述第一传输门,用于产生所述第一传输门需要的互补控制信号;
第二反相器,连接所述第二传输门,用于产生所述第二传输门需要的互补控制信号。
在本实用新型的一种示例性实施方式中,还包括:缓冲器,连接所述信号输出端。
根据本实用新型的另一个方面,还提供一种三维集成电路,包括:
多个芯片,所述多个芯片层叠设置;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于长鑫存储技术有限公司,未经长鑫存储技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201821837173.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。