[实用新型]箱式真空炉降温系统

说明书

本实用新型公开了一种箱式真空炉降温系统，包括有四周通过连接块相固定连接的上承板和下衬板，上承板与下衬板之间设置有呈间隔分布的多个导热块，多个导热块分别紧贴上承板，有冷却管从上承板和下衬板的一侧引入，并呈S形依次绕过多个导热块后，从上承板和下衬板的另一侧引出。本实用新型结构简单，采用接触式的热传导方式，在工件降温的过程中引入冷却介质，能够快速换走工件的热量，实现了快速降温，提高了降温速率，从而提高了生产效率。

技术领域

本实用新型涉及箱式真空炉领域，具体是一种箱式真空炉降温系统。

背景技术

箱式真空炉是半导体产品生产过程中所使用的常见设备之一。由于在真空环境下，加热体及工件(产品)的降温速率极慢，降温时间太长，使得生产效率较低。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种箱式真空炉降温系统，在工件降温的过程中引入冷却介质，能够快速换走工件的热量，以实现快速降温的目的。

本实用新型的技术方案如下：

一种箱式真空炉降温系统，包括有四周通过连接块相固定连接的上承板和下衬板，其特征在于：所述的上承板与所述下衬板之间设置有呈间隔分布的多个导热块，所述的多个导热块分别紧贴所述上承板，有冷却管从所述上承板和下衬板的一侧引入，并呈S形依次绕过所述的多个导热块后，从所述上承板和下衬板的另一侧引出。

所述的箱式真空炉降温系统，其特征在于：所述的上承板和下衬板设置于箱式真空炉的真空腔室内。

所述的箱式真空炉降温系统，其特征在于：所述冷却管的引入、引出部位分别设有密封圈。

所述的箱式真空炉降温系统，其特征在于：所述的冷却管中流通有冷却介质。

本实用新型的有益效果：

本实用新型结构简单，采用接触式的热传导方式，在工件降温的过程中引入冷却介质，能够快速换走工件的热量，实现了快速降温，提高了降温速率，从而提高了生产效率。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图。

图2为图1中A-A向结构示意图。

具体实施方式

参见图1、2，一种箱式真空炉降温系统，包括有四周通过连接块相固定连接的上承板1和下衬板2，上承板1与下衬板2之间设置有呈间隔分布的多个导热块3，多个导热块3分别紧贴上承板1，有冷却管4从上承板1和下衬板2的一侧引入，并呈S形依次绕过多个导热块3后，从上承板1和下衬板2的另一侧引出。

本实用新型中，上承板1和下衬板2设置于箱式真空炉的真空腔室内。

冷却管4的引入、引出部位分别设有密封圈。

冷却管4中流通有冷却介质(冷却水或液氮等)。

以下结合附图对本实用新型作进一步的说明：

在工件降温的过程中，由冷却管4引入冷却介质，通过多个导热块3对上承板1进行换热，从而通过接触式的热传导方式快速换走上承板1上工件的热量，实现了快速降温。

以上的实施例仅仅是对本实用新型的优选实施方案进行描述，并非对本实用新型的保护范围进行限定，在不脱离本实用新型设计精神的前提下，本领域普通技术人员对本实用新型的技术方案作出的变形和改进，均应落入本实用新型的保护范围内。