[实用新型]清洁装置及半导体设备

权利要求书

1.一种清洁装置，其特征在于，包括：

毛刷；

马达，一端与所述毛刷相连接，用于驱动所述毛刷移动；

伸缩杆，与所述马达的另一端相连接。

2.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于：所述毛刷包括刷柱和刷头，所述刷柱与所述马达相连接，所述刷头与所述刷柱相连接且沿所述刷柱呈螺旋状分布，所述刷头的螺旋间距为L，其中，1mm≤L≤20mm。

3.一种半导体设备，其特征在于，包括：

制程腔室，所述制程腔室上设置有排气口；

支路排气管路，一端与所述制程腔室的排气口相连通；

如权利要求1至2任一项所述的清洁装置，所述清洁装置用于对所述支路排气管路进行清洁作业，所述清洁装置与所述支路排气管路远离所述排气口的一端相邻设置，其中，所述毛刷朝向所述支路排气管路，通过所述伸缩杆的伸缩带动所述毛刷在所述支路排气管路内移动以对所述支路排气管路的不同位置进行清洁作业。

4.根据权利要求3所述的半导体设备，其特征在于：所述支路排气管路的横截面为矩形，矩形的长度为X，宽度为Y，其中，10mm≤X≤150mm，10mm≤Y≤150mm。

5.根据权利要求3所述的半导体设备，其特征在于：所述支路排气管路的长度为Z，所述清洁装置的伸缩杆的伸缩范围为I，其中，0≤I≤Z。

6.根据权利要求3所述的半导体设备，其特征在于：所述半导体设备还包括收纳盒，所述收纳盒与所述支路排气管路远离所述排气口的一端相连接，用于在所述清洁装置不工作时收纳所述清洁装置。

7.根据权利要求6所述的半导体设备，其特征在于：所述收纳盒还包括盒盖，所述盒盖设置于所述收纳盒与所述支路排气管路相邻的面上，所述盒盖包括滑开式盒盖。

8.根据权利要求3所述的半导体设备，其特征在于：所述制程腔室、所述支路排气管路和所述清洁装置均包括多个，所述支路排气管路和所述清洁装置一一对应设置。

9.根据权利要求8所述的半导体设备，其特征在于：所述半导体设备还包括总排气管路，多个所述支路排气管路与所述总排气管路相连通。

10.根据权利要求8所述的半导体设备，其特征在于：多个所述制程腔室呈阵列排布，且位于同一行或同一列的多个所述制程腔室连接至同一所述支路排气管路。

11.根据权利要求3至10任一项所述的半导体设备，其特征在于：所述制程腔室包括由涂胶显影腔室、抗反射涂层涂布腔室及热处理腔室所构成的群组中的一种或多种。