[实用新型]一种掩模版取放装置、曝光系统及光刻机有效
| 申请号： | 201821877705.1 | 申请日： | 2018-11-14 |
| 公开（公告）号： | CN208922065U | 公开（公告）日： | 2019-05-31 |
| 发明（设计）人： | 沈雪;苏延洪;柯汎宗;黄志凯;叶日铨 | 申请（专利权）人： | 德淮半导体有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人： | 王宏婧 |
| 地址： | 223300 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 掩模版 吸附组件 取放装置 负极板 负离子 正极板 正离子 硫酸根离子 电源 氨根离子 曝光系统 电极板 光刻机 吸附 正极 本实用新型 负极 极性相反 曝光图形 产能 去除 生产成本 生产 | ||
1.一种掩模版取放装置，其特征在于，包括一对极性相反的电极板、正离子吸附组件、负离子吸附组件及一电源，所述电极板中的正极板连接于所述电源的正极，负极板连接于所述电源的负极，所述正离子吸附组件设置于所述负极板的靠近所述正极板的一端面上，所述负离子吸附组件设置于所述正极板的靠近所述负极板的一端面上，所述正离子吸附组件用于吸附所述掩模版周边的硫酸根离子，所述负离子吸附组件用于吸附所述掩模版周边的氨根离子。
2.如权利要求1所述的掩模版取放装置，其特征在于，所述正离子吸附组件由正离子吸附材料组成，所述正离子吸附材料包括镁盐和磷盐。
3.如权利要求1所述的掩模版取放装置，其特征在于，所述负离子吸附组件由负离子吸附材料组成，所述负离子吸附材料包括Ba2+或Ca2+。
4.如权利要求1所述的掩模版取放装置，其特征在于，包括一组或多组成对设置的所述正、负离子吸附组件。
5.如权利要求1所述的掩模版取放装置，其特征在于，还包括传感器和控制器，所述传感器用于检测环境中的所述硫酸根离子或所述氨根离子，所述传感器与所述控制器通信连接，所述传感器检测到所述硫酸根离子或所述氨根离子时，所述控制器分别控制所述正、负极板通电。
6.如权利要求1所述的掩模版取放装置，其特征在于，所述掩模版取放装置为机械手臂或掩模版存储装置。
7.如权利要求6所述的掩模版取放装置，其特征在于，所述掩模版存储装置为掩模版库、掩模版盒或光刻机的掩模版缓存盒。
8.一种光刻机的曝光系统，其特征在于，包括如权利要求1-7任一项所述的一种掩模版取放装置。
9.一种光刻机，其特征在于，包括如权利要求8所述的一种光刻机的曝光系统。
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