[实用新型]自旋絮凝设备

说明书

本实用新型涉及水处理领域，具体涉及一种自旋絮凝设备，自旋絮凝设备包括框架，框架上沿水流方向间隔布置有至少两个搅拌单元层，各搅拌单元层分别包括并行布置的至少两个搅拌单元，同一搅拌单元层中各搅拌单元的依次排布方向垂直于水流方向，同一搅拌单元层中任意相邻的两个搅拌单元之间形成间隔，所述搅拌单元包括转动装配于框架上的旋转杆以及沿周向依次布置在旋转杆上的多个沿轴向延伸的叶片，任意相邻的两个搅拌单元层中，其中一个搅拌单元层中的间隔均与另一个搅拌单元层中的相应搅拌单元在水流方向上对应布置。搅拌单元层中的搅拌单元能够弥补相邻搅拌单元层中间隔处水流扰动较小的缺陷，使水流扰动更加均匀，增强絮凝效果。

技术领域

本实用新型涉及水处理领域，具体涉及一种自旋絮凝设备。

背景技术

目前，公知的絮凝设备主要是栅条絮凝设备、网格絮凝设备、折板絮凝设备等。栅条絮凝设备和网格絮凝设备，都是单片的形式，对于深度达到5、6米的絮凝池来说需要安装5-8层，每一层都要设置安装支架，安装极为不便和不安全。

授权公告号为CN203212374U的中国实用新型专利公开了一种集成式涡街反应器，反应器包括方形的框架，在框架上均匀等距的设置有若干涡街反应平板框，涡街反应平板框内均匀等距地设置有多个搅拌单元，各搅拌单元均包括涡街旋转杆以及至少两个沿周向依次布置在涡街旋转杆上的沿轴向延伸的叶片。由该现有技术的附图中可以看出，各搅拌单元呈阵列的方式。无论水流流向为水平流向还是上下流向，设定沿水流方向同一位置的搅拌单元构成搅拌单元层，同一搅拌单元层中的各搅拌单元沿依次排布方向排布，依次排布方向垂直于水流方向。该集成式涡街反应器安装方便，管理维护简单。

现有技术中，任意相邻的两个搅拌单元层中的搅拌单元对齐布置，对齐布置虽然方便安装，但是由此也带来了一些弊端。由于搅拌单元对齐布置，在实际水流冲击搅拌单元转动时，接触搅拌单元的水流扰动较大，位于同一个搅拌单元层中的两搅拌单元之间间隔处的水流扰动较小，在依次排布方向上，水流扰动呈现出强-弱-强-弱依次交错的情况，水流扰动整体不均匀，扰动不均匀会减弱絮凝效果。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种自旋絮凝设备，以解决絮凝设备中各搅拌单元在水流方向上对齐布置而导致在搅拌单元的依次排布方向上水流扰动不均匀、絮凝效果差的技术问题。

为实现上述目的，本实用新型自旋絮凝设备的技术方案是：自旋絮凝设备包括框架，框架上沿水流方向间隔布置有至少两个搅拌单元层，各搅拌单元层分别包括并行布置的至少两个搅拌单元，同一搅拌单元层中各搅拌单元的依次排布方向垂直于水流方向，同一搅拌单元层中任意相邻的两个搅拌单元之间形成间隔，所述搅拌单元包括转动装配于框架上的旋转杆以及沿周向依次布置在旋转杆上的多个沿轴向延伸的叶片，任意相邻的两个搅拌单元层中，其中一个搅拌单元层中的间隔均与另一个搅拌单元层中的相应搅拌单元在水流方向上对应布置。

本实用新型的有益效果是：本实用新型提供的自旋絮凝设备包括框架和设置在框架上的至少两个搅拌单元层，各搅拌单元层中的搅拌单元沿依次排布方向间隔并行布置，同一搅拌单元层中的两个相邻搅拌单元之间形成间隔，在任意相邻的两个搅拌单元层中，其中一个搅拌单元层中的间隔在水流方向上对应另一个搅拌单元层中的搅拌单元。与现有技术中各搅拌单元在水流方向上对齐布置相比，搅拌单元层中的搅拌单元能够弥补相邻搅拌单元层中间隔处水流扰动较小的缺陷，最终在依次排布方向上减少甚至是避免水流扰动的盲区或薄弱区，使水流扰动更加均匀，增强絮凝效果。

进一步地，任意相邻的两搅拌单元层中的搅拌单元在所述依次排布方向上呈波浪形依次交错布置。呈波浪形依次交错布置能够进一步的增加水流扰动的均匀性。

进一步地，所述搅拌单元层沿水流方向间隔布置有至少三个，任意相邻三个搅拌单元层中，首尾两端的搅拌单元层中的搅拌单元沿水流方向对齐布置。任意相邻三个搅拌单元层中，首尾两端的搅拌单元层结构相同，方便进行安装。