[实用新型]一种用于塑料件表面磁控溅射镀膜的设备

说明书

本实用新型涉及塑料镀膜技术领域，其公开了一种用于塑料件表面磁控溅射镀膜的设备，包括磁控溅射真空镀膜机，所述磁控溅射真空镀膜机包括真空腔体，所述真空腔体为具有筒体结构的真空腔体，在所述真空腔体内安装有孪生旋转磁控靶，所述的孪生旋转磁控靶的数量有四组且沿所述筒体内壁的周向均匀分布，在位于所述的四组孪生旋转磁控靶的中间位置设置有转架系统，所述的四组孪生旋转磁控靶分隔成四个单独的镀膜空间；所述真空腔体中分别设置有加热装置、中频离子源模块、蒸镀模块，所述加热装置、中频离子源模块、蒸镀模块分别设置在相邻的两个镀膜空间之间并与所述的镀膜空间相隔开。本实用新型克服了现有塑料件表面喷涂工艺的弊端，镀膜质量好。

技术领域

本实用新型涉及塑料镀膜技术领域，具体涉及一种用于塑料件表面磁控溅射镀膜的设备。

背景技术

传统的塑料件表面喷涂工艺，大部分都会直接涉及到环保问题，另外塑料成型后的表面水气以及由于静电吸附的灰尘问题都会直接影响到膜层的质量。

因此，有必要开发出一种新的塑料件镀层工艺及设备来解决上述问题。而离子注入技术是一大研究方向，典型的如低温磁控溅射镀膜技术(其利用磁场与电场交互作用来控制电子的定向运动，并使得电子撞击氩气产生离子，再由氩离子轰击靶材，使得靶材表面发生溅射，溅射粒子射向零件表面形成膜层)，其技术关键是要确保塑料件镀膜后其膜层的质量和附着力。

实用新型内容

为了解决上述问题，本实用新型提出一种用于塑料件表面磁控溅射镀膜的设备，旨在克服现有塑料件表面喷涂工艺的弊端，增强塑料件镀膜后其膜层的附着力，提高镀膜质量。具体的技术方案如下：

一种用于塑料件表面磁控溅射镀膜的设备，包括磁控溅射真空镀膜机，所述磁控溅射真空镀膜机包括真空腔体，所述真空腔体为具有筒体结构的真空腔体，所述真空腔体的筒体两端设置有封闭门，在所述真空腔体内且平行于所述筒体轴线的方向安装有孪生旋转磁控靶，所述的孪生旋转磁控靶的数量有四组且沿所述筒体内壁的周向均匀分布，在位于所述的四组孪生旋转磁控靶的中间位置设置有用于定位和安装塑料件的转架系统，所述转架系统相对于所述筒体的中心轴线可转动设置，所述的四组孪生旋转磁控靶通过防污隔板相互隔开并使得所述的四组孪生旋转磁控靶分隔成四个单独的镀膜空间；所述真空腔体中分别设置有用于对塑料件进行预热的加热装置、用于对塑料件表面进行真空等离子清洗或表面改性处理的中频离子源模块、用于进行蒸镀的蒸镀模块，所述加热装置、中频离子源模块、蒸镀模块分别设置在相邻的两个镀膜空间之间并与所述的镀膜空间相隔开。

由于在磁控溅射真空镀膜机的真空腔体内设置了加热装置、中频离子源模块和蒸镀模块，从而使得磁控溅射镀膜时，可以在同一真空腔体内采用加热装置对塑料件先进行预热，预热后采用中频离子源模块对塑料件的表面进行真空等离子清洗，清洗后进行磁控溅射真空镀膜，镀膜后再使用蒸镀模块对镀膜表面进行蒸镀，或者采用中频离子源模块对镀膜表面进行改性处理，使得在塑料件的表面形成一层防指纹膜。因此本实用新型的磁控溅射真空镀膜机具有生产效率高，镀层结合力强、镀膜表面质量好的优势。

上述塑料件的等离子体清洗工艺，是采用中频离子源模块，在真空腔体的高真空条件下通入Ar气，在高电压的作用下实现把Ar气体离化成Ar离子，Ar离子在磁场的牵引下，直接轰击工件表面，把塑料表面吸附的灰尘清洗干净。

上述采用加热装置对塑料件进行预热时，其预热的温度优选设置为90-100℃。

本实用新型的一种用于塑料件表面磁控溅射镀膜的设备，相对于常规的平面靶，磁控溅射真空镀膜机上采用孪生旋转磁控靶，其可以提高靶材的利用率和溅射速率，而且在镀膜的稳定性和等离子体离化效果上也大大提高。

本实用新型中，通过在真空腔体内合理分布四组孪生旋转磁控靶、加热装置、中频离子源模块、蒸镀模块以及转架系统，实现了磁控溅射真空镀膜机的零件预热、等离子清洗、磁控溅射镀膜、蒸镀及中频离子源表面改性的多功能，其结构紧凑、生产效率高、成膜质量好。