[实用新型]一种存储芯片三维封装结构有效

专利信息
申请号: 201821900587.1 申请日: 2018-11-16
公开(公告)号: CN208904012U 公开(公告)日: 2019-05-24
发明(设计)人: 金国庆;俞浩东;鲁文铧 申请(专利权)人: 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司
主分类号: H01L23/538 分类号: H01L23/538;H01L25/065
代理公司: 上海智晟知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31313 代理人: 张东梅
地址: 214028 江苏省无锡市新区*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 芯片 背面腔体 凸点 外接焊盘 芯片正面 三维封装结构 背面设置 存储芯片 芯片焊盘 堆叠 嵌入 背面 本实用新型 电连接 焊球 外接
【权利要求书】:

1.一种存储芯片三维封装结构,包括:

第一芯片,所述第一芯片正面的芯片焊盘上设置有第一芯片凸点;

第二芯片,所述第二芯片的背面设置有第一背面腔体,所述第二芯片正面的芯片焊盘上设置有第二芯片凸点,所述第一芯片的正面堆叠至所述第二芯片的背面,所述第一芯片凸点嵌入所述第一背面腔体;

第三芯片,所述第三芯片的背面设置有第二背面腔体,所述第三芯片正面设置有外接焊盘,所述第二芯片的正面堆叠至所述第三芯片的背面,所述第二芯片凸点嵌入所述第二背面腔体;以及

外接焊球,所述外接焊盘电连接至所述外接焊盘。

2.如权利要求1所述的存储芯片三维封装结构,其特征在于,所述第二芯片包括N个芯片,其中N≥2。

3.如权利要求1所述的存储芯片三维封装结构,其特征在于,所述第一背面腔体设置有第一内壁金属互连,所述第一内壁金属互连电连接至所述第一芯片的焊盘和/或电路,且所述第一内壁金属互连电连接第一芯片凸点。

4.如权利要求1所述的存储芯片三维封装结构,其特征在于,所述第二背面腔体设置有第二内壁金属互连,所述第二内壁金属互连电连接至所述第二芯片的焊盘和/或电路,且所述第二内壁金属互连电连接第二芯片凸点。

5.如权利要求1所述的存储芯片三维封装结构,其特征在于,所述第一背面腔体、第二背面腔体内具有间隙。

6.如权利要求1所述的存储芯片三维封装结构,其特征在于,所述第一芯片的正面具有第一钝化层;所述第二芯片的正面具有第二钝化层;所述第三芯片的正面具有第三钝化层。

7.如权利要求1所述的存储芯片三维封装结构,其特征在于,所述第一芯片正面的第一钝化层直接与第二芯片背面接触。

8.如权利要求1所述的存储芯片三维封装结构,其特征在于,所述第二芯片正面的第二钝化层直接与第三芯片背面接触。

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