[实用新型]带热回收的多喷嘴气化炉有效

专利信息
申请号: 201821906033.2 申请日: 2018-11-19
公开(公告)号: CN209481584U 公开(公告)日: 2019-10-11
发明(设计)人: 毕大鹏;张建胜;李位位;袁苹 申请(专利权)人: 清华大学;清华大学山西清洁能源研究院
主分类号: C10J3/48 分类号: C10J3/48;C10J3/72;C10J3/86
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 赵天月
地址: 10008*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 废锅 水冷壁 水冷屏 排渣池 辐射 下行通道 合成气 多喷嘴气化炉 出渣口 热回收 烧嘴 粗合成气出口 本实用新型 出气化室 方向延伸 工艺烧嘴 周向分布 排渣口 气化室 中心轴 主烧嘴 侧壁 底端 壳体 内液 收缩 体内 延伸
【权利要求书】:

1.一种带热回收的多喷嘴气化炉,其特征在于,包括:

壳体;

第一水冷壁,所述第一水冷壁设在所述壳体内且限定出气化室,所述气化室底部收缩成出渣口;

一个主烧嘴,所述主烧嘴设置在所述壳体顶壁的中心位置,所述主烧嘴适于向所述气化室喷射粉煤、氧气和蒸汽或者水煤浆、氧气;

至少两个工艺烧嘴,所述工艺烧嘴位于所述壳体顶壁上且邻近所述主烧嘴设置,所述工艺烧嘴适于向所述气化室喷射煤粉、氧气和蒸汽或者水煤浆、氧气;

辐射废锅,所述辐射废锅与所述气化室的底端相连,并且所述辐射废锅的底部收缩形成废锅出渣口,所述辐射废锅包括:

第二水冷壁,所述第二水冷壁设置在所述辐射废锅内,所述第二水冷壁形成合成气下行通道;

水冷屏组,所述水冷屏组包括多个水冷屏,所述多个水冷屏设在所述合成气下行通道内且沿周向分布,每个所述水冷屏均由所述第二水冷壁向所述合成气下行通道中心轴方向延伸;

其中,所述第二水冷壁的下集箱和每个所述水冷屏的下集箱相连并与穿过所述辐射废锅下部的冷却水进水管相连通;

所述第二水冷壁的上集箱和每个所述水冷屏的上集箱相连并与穿过所述辐射废锅上部的冷却水出水管相连通,

排渣池,所述排渣池设在所述辐射废锅的下方,所述废锅出渣口延伸到所述排渣池内液面以下,所述排渣池的侧壁具有粗合成气出口,底部具有排渣口。

2.根据权利要求1所述的气化炉,其特征在于,所述主烧嘴内设置有点火棒,具有点火功能。

3.根据权利要求2所述的气化炉,其特征在于,至少两个所述工艺烧嘴以所述主烧嘴为中心且在周向上均匀分布。

4.根据权利要求3所述的气化炉,其特征在于,所述工艺烧嘴与所述主烧嘴呈10-45度夹角设置。

5.根据权利要求1所述的气化炉,其特征在于,所述水冷屏为8-24个。

6.根据权利要求1或5所述的气化炉,其特征在于,每相邻两个所述水冷屏之间的夹角为15-45度。

7.根据权利要求6所述的气化炉,其特征在于,每个所述水冷屏具有6-15根水冷管。

8.根据权利要求1所述的气化炉,其特征在于,所述水冷屏与所述第二水冷壁通过鳍片相连,所述水冷屏的宽度为所述合成气下行通道半径的1/9-1/4。

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