[实用新型]一种用于纳米镀膜的辅助设备

权利要求书

1.一种用于纳米镀膜的辅助设备，包括承载盒(1)、连接座(2)和固定架(3)，其特征在于，所述承载盒(1)的内部设置有连接座(2)，且连接座(2)的上部插接有固定架(3)，所述固定架(3)的一侧设置有活动架(6)，所述承载盒(1)的上部安装有第一电动缸(7)，所述第一电动缸(7)的输出端连接有第一推杆(8)，且第一推杆(8)的另一端和活动架(6)连接，所述固定架(3)和活动架(6)的上部均开设有多个排液孔(9)，所述承载盒(1)的上侧固定连接有安装架(10)，所述安装架(10)的下侧固定安装有第二电动缸(11)，且第二电动缸(11)的输出端连接有第二推杆(12)，所述第二推杆(12)的下端连接有升降板(13)，所述升降板(13)的下侧固定连接有第三电动缸(14)，且第三电动缸(14)的输出端连接有第三推杆(15)，所述第三推杆(15)的另一端固定连接有活动条(16)，所述活动条(16)的下侧固定连接有第四电动缸(17)，且第四电动缸(17)的输出端连接有第四推杆(18)，所述第四推杆(18)的另一端固定连接有转动电机(19)，所述转动电机(19)的输出端连接有输出轴(20)，且输出轴(20)的另一端固定连接有安装盒(21)，所述安装盒(21)的内部插接有海绵头(22)。

2.根据权利要求1所述的一种用于纳米镀膜的辅助设备，其特征在于，所述连接座(2)的上侧开设有插孔，所述固定架(3)的下侧设置有插柱，且插住插接在插孔的内部。

3.根据权利要求1所述的一种用于纳米镀膜的辅助设备，其特征在于，所述固定架(3)的一侧开设有多个相互平行的连接槽(4)，所述活动架(6)的一侧设置有多个相互平行的连接杆(5)，且连接杆(5)插接在连接槽(4)的内部。

4.根据权利要求1所述的一种用于纳米镀膜的辅助设备，其特征在于，所述承载盒(1)的底部设置有排污管。

5.根据权利要求1所述的一种用于纳米镀膜的辅助设备，其特征在于，所述活动条(16)的上侧设置有第一滑块，所述升降板(13)的下侧沿所述第三推杆(15)的长度方向开设有第一滑槽，且第一滑块套在第一滑槽的内部。

6.根据权利要求1所述的一种用于纳米镀膜的辅助设备，其特征在于,所述转动电机(19)的上侧设置有第二滑块，所述活动条(16)的下侧沿活动条(16)的长度方向开设有第二滑槽，且第二滑块套在第二滑槽的内部。