[实用新型]一种基于曝光机框架高重复机械精度的定位装置有效
| 申请号： | 201821921104.6 | 申请日： | 2018-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN209265174U | 公开（公告）日： | 2019-08-16 |
| 发明（设计）人： | 詹泽军;柯华廉 | 申请（专利权）人： | 东莞市多普光电设备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京华仲龙腾专利代理事务所(普通合伙) 11548 | 代理人： | 李静 |
| 地址： | 523000 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 上框架 定位轴承 定位座 本实用新型 定位装置 定位组件 定位槽 定位块 高重复 曝光机 对位精准度 插套配合 垂直设置 铰接配合 位置定位 定位销 偏移量 上下层 下框架 底片 竖直 相切 配合 保证 | ||
1.一种基于曝光机框架高重复机械精度的定位装置，包括铰接配合的下框架（1）和上框架（2），其特征在于，所述的上框架（2）的左右侧和后侧均设置有第一定位组件（3），所述的第一定位组件（3）包括设置在下框架（1）上的T卡定位座（30），所述的T卡定位座（30）的中心开设有定位槽，所述的T卡定位座（30）上设置有第一定位块（31），所述的第一定位块（31）上设置通过第一定位销（33）安装有两个相对的第一定位轴承（32），所述的上框架（2）上安装有T型定位块（34），所述的T型定位块（34）的竖直部分与定位槽插套配合并与第一定位轴承（32）相切配合，且上框架左右侧和上框架后侧的第一定位轴承（32）垂直设置。
2.根据权利要求1所述的一种基于曝光机框架高重复机械精度的定位装置，其特征在于，所述的上框架（2）的左右侧还设置有第二定位组件（4），所述的第二定位组件（4）包括设置在下框架（1）上的第二定位块（40），所述的第二定位块（40）上通过第二定位销（42）安装有第二定位轴承（41），所述的第二定位轴承（41）与上框架（2）的侧面平行，所述的上框架（2）的侧面安装有直角定位块（43），所述的直角定位块（43）的竖直部分与第二定位轴承（41）相切配合。
3.根据权利要求2所述的一种基于曝光机框架高重复机械精度的定位装置，其特征在于，所述的第一定位组件（3）和第二定位组件（4）均关于上框架（2）左右对称设置。
4.根据权利要求1所述的一种基于曝光机框架高重复机械精度的定位装置，其特征在于，两个相对的第一定位轴承（32）可延与第一定位轴承的轴线垂直的方向进行位置调节。
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