[实用新型]密封剂分配器有效

专利信息
申请号: 201821921909.0 申请日: 2018-11-21
公开(公告)号: CN209531289U 公开(公告)日: 2019-10-25
发明(设计)人: 李光渊;池恩赫;赵容柱 申请(专利权)人: 塔工程有限公司
主分类号: B05C5/02 分类号: B05C5/02;B05C11/10
代理公司: 北京钲霖知识产权代理有限公司 11722 代理人: 金丹;李强
地址: 韩国庆*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 基板 密封剂分配器 分配头单元 间隙控制部 头部支架 喷嘴 装载台 本实用新型 位移传感器 间隙控制 角部区域 周期可变 密封线 分配 涂敷 装载
【权利要求书】:

1.一种密封剂分配器,其中,包括:

装载台,设置于框架的上部,用于装载分配规定液体的基板;

头部支架,设置于所述装载台的上部;以及

至少一个分配头单元,设置于头部支架,用于分配规定液体,

所述至少一个分配头单元包括:

位移传感器,用于测定喷嘴与所述基板之间的距离;以及

间隙控制部,用于调节所述基板与所述喷嘴之间的距离,

所述间隙控制部在具有事先已涂敷的密封线的角部区域使间隙控制周期可变。

2.根据权利要求1所述的密封剂分配器,其中,

所述间隙控制部在非所述角部区域的区域以第一周期执行间隙控制。

3.根据权利要求2所述的密封剂分配器,其中,

所述间隙控制部在所述角部区域以比所述第一周期长的第二周期执行间隙控制。

4.根据权利要求1所述的密封剂分配器,其中,

所述间隙控制部在非所述角部区域的区域维持第一间隙高度。

5.根据权利要求4所述的密封剂分配器,其中,

所述间隙控制部在所述角部区域维持比所述第一间隙高度低的第二间隙高度。

6.根据权利要求1所述的密封剂分配器,其中,

至少一个所述分配头单元在非所述角部区域的区域以第一运行速度执行涂敷。

7.根据权利要求6所述的密封剂分配器,其中,

至少一个所述分配头单元在所述角部区域以比第一运行速度小的第二运行速度执行涂敷。

8.根据权利要求1所述的密封剂分配器,其中,

所述间隙控制部在所述喷嘴进入所述角部区域之前通过另外的输入输出引脚来接收与间隙控制周期相关的信息。

9.根据权利要求1所述的密封剂分配器,其中,

所述间隙控制部在每次从输入输出引脚输出数据时,将事先确定的编号提升一个阶段,并调整为与相应的事先确定的编号相对应的目标间隙。

10.根据权利要求1所述的密封剂分配器,其中,

所述位移传感器输出在非所述角部区域的区域以第一周期测定的所述间隙控制部的距离数据。

11.根据权利要求10所述的密封剂分配器,其中,

所述位移传感器输出在所述角部区域以比所述第一周期长的第二周期测定的所述间隙控制部的距离数据。

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