[实用新型]一种光照设备有效
申请号: | 201821938473.6 | 申请日: | 2018-11-22 |
公开(公告)号: | CN208938541U | 公开(公告)日: | 2019-06-04 |
发明(设计)人: | 金宰弘;彭志龙;张富强;朴丽华;张琨鹏;毛国琪 | 申请(专利权)人: | 北京京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G09F9/00 | 分类号: | G09F9/00 |
代理公司: | 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 | 代理人: | 莎日娜 |
地址: | 100176 北京市大兴*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光源组件 支撑载台 本实用新型 光照设备 冷却机构 目标对象 光线利用率 波长光线 吸收波长 发射 光损失 波长 光源 照射 配置 支撑 | ||
本实用新型提供的一种光照设备,该设备包括:支撑载台、光源组件和冷却机构;所述光源组件设置在所述支撑载台的一侧,所述光源组件被配置为发射指定波长的光线,照射所述支撑载台上的目标对象;所述冷却机构设置在所述光源组件远离所述支撑载台的一侧。本实用新型实施例中,能够根据目标对象吸收波长的大小,使用发射指定波长光线的光源,提高光线利用率,避免光损失。
技术领域
本实用新型涉及显示技术领域,尤其涉及一种光照设备。
背景技术
在显示屏的制备过程中,器件的曝光、固化和封装等工艺均需要光照。目前,光照射工艺使用的是汞灯或金属卤素灯作为光源。而汞灯或金属卤素灯发出的光的波长是混合波长,混合波长不能直接用于光照射工艺,需进行滤光,滤光会出现光损失,对光照射工艺的稳定性具有一定的影响。而且由于汞灯含有重金属和臭氧,会对人体造成伤害,所以照射的时候工人需与光源保持较大的距离,而且汞灯为照射均匀也需要和待照射对象保持一定的距离。以至于汞灯发出的光线出现较大的损失。
实用新型内容
本实用新型提供一种光照设备,以解决现有技术中的光照设备对人体具有损害,同时具有很高的光线损失的问题。
根据本实用新型的一方面,提供了一种光照设备,包括:支撑载台、光源组件和冷却机构;
所述光源组件设置在所述支撑载台的一侧,所述光源组件被配置为发射指定波长的光线,照射所述支撑载台上的目标对象;
所述冷却机构设置在所述光源组件远离所述支撑载台的一侧。
优选的,所述指定波长的波长范围为:350nm-420nm。
优选的,所述光源组件包括基底和设置在所述基底的面向所述支撑载台一面的多个点光源;各所述点光源阵列排布在所述基底上。
优选的,所述基底包括边缘区域和中间区域;其中,设置在所述边缘区域的相邻所述点光源的第一间距小于设置在所述中间区域的相邻所述点光源的第二间距。
优选的,所述点光源包括多个第一点光源和多个第二点光源;所述第一点光源和所述第二点光源交替设置在所述基底上。
优选的,所述第一点光源发出的光线的波长为365nm;所述第二点光源发出的光线的波长为385nm。
优选的,所述点光源为LED灯。
优选的,还包括控制模块,被配置为控制所述点光源的开关状态。
优选的,所述光源组件与支撑载台的距离为80mm-100mm。
本实用新型实施例提供的一种光源设备,包括:支撑载台、光源组件和冷却机构;所述光源组件设置在所述支撑载台的一侧,所述光源组件被配置为发射指定波长的光线,照射所述支撑载台上的目标对象;所述冷却机构设置在所述光源组件远离所述支撑载台的一侧。本实用新型实施例中,能够根据目标对象吸收波长的大小,使用发射指定波长光线的光源,提高光线利用率,避免光损失。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案,下面将对本实用新型实施例的描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本实用新型实施例提供的一种光照设备的结构示意图;
图2是本实用新型实施例提供的一种光源组件的结构示意图。
具体实施方式
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