[实用新型]一种基片承载装置

说明书

本实用新型公开了一种基片承载装置，包括底板、顶板、连接杆、载板定位杆、基片载板和清洗管；连接杆的两端分别与底板和顶板固定连接，以在底板和顶板之间形成用于承放基片载板的载板承放区；载板定位杆的两端分别与底板和顶板固定连接；基片载板上设有载板定位孔，且基片载板通过载板定位孔穿设在载板定位杆上，以将基片载板定位在载板承放区内；清洗管与底板和/或顶板固定连接，清洗管上设有进液口和清洗口，清洗口与基片载板相对应，以使得自进液口进入的洗液通过清洗口导向基片载板。本公开的基片承载装置的清洗管可将洗液直接导向基片载板，从而将基片载板之间难以通过浸泡方式去除的刻蚀液去掉，有效避免刻蚀液对基片的过刻蚀。

技术领域

本实用新型涉及半导体生产领域，更具体地，涉及一种基片承载装置。

背景技术

半导体制造领域中通常需要对基片(又称为衬底)进行各种处理。例如，太阳能电池生产工艺中通常包括基片的刻蚀工艺环节。当刻蚀工艺结束后，需要使用去离子水或其它溶剂将刻蚀溶液最大程度的清洗干净。具体地，承载有基片的载板安装在基片承载装置(例如基片承载花篮)中，机械手提起基片承载装置并将其置于水槽中。经过数分钟的浸泡后将废水排走，重复几次浸泡、排废水即完成清洗过程。

现有的清洗为浸泡清洗，载板与载板之间的缝隙很难清洗完全，残存在载板之间的刻蚀溶液会继续刻蚀载板上的基片，造成基片的过度刻蚀，最终影响产品片的性能。

因此，如何提供一种可充分有效地清洗基片的基片承载装置成为本领域亟需解决的技术难题。

实用新型内容

本实用新型的一个目的是提供一种可充分有效地清洗基片的基片承载装置的新技术方案。

根据本实用新型的第一方面，提供了一种基片承载装置。

该基片承载装置包括底板、顶板、连接杆、载板定位杆、基片载板和清洗管；其中，

所述连接杆的两端分别与所述底板和所述顶板固定连接，以在所述底板和所述顶板之间形成用于承放所述基片载板的载板承放区；

所述载板定位杆的两端分别与所述底板和所述顶板固定连接；

所述基片载板上设有载板定位孔，且所述基片载板通过所述载板定位孔穿设在所述载板定位杆上，以将所述基片载板定位在所述载板承放区内；

所述清洗管与所述底板和/或所述顶板固定连接，所述清洗管上设有进液口和清洗口，所述清洗口与所述基片载板相对应，以使得自所述进液口进入的洗液通过所述清洗口导向所述基片载板。

可选的，所述底板和所述顶板均具有矩形形状，四根所述连接杆分别位于所述底板和所述顶板的四个角处。

可选的，所述载板定位杆与所述基片载板间隙配合。

可选的，所述基片载板上设有至少两个所述载板定位孔。

可选的，所述底板上设有清洗管过孔；

所述清洗管的一端与所述顶板固定连接，所述清洗管的另一端与所述清洗管过孔相配合。

可选的，所述进液口上设有用于与外部供液管相连接的连接法兰。

可选的，所述进液口位于所述清洗管的一端，所述清洗管的另一端具有封闭部。

可选的，所述清洗口与每两层所述基片载板之间的间隙相对应。

可选的，所述基片载板上设有清洗管豁口，所述清洗管豁口与所述清洗管相适配。

可选的，所述基片承载装置包括至少两列所述基片载板；

所述清洗管位于相邻的两列所述基片载板之间。