[实用新型]一种光源结构、光学投影模组、感测装置及设备

权利要求书

1.一种光源结构，其特征在于，用于发射光束至一被测目标物上进行三维感测，所述光源结构包括半导体基底、阳极、阴极、及形成在所述半导体基底上的多个发光单元，所述阴极和阳极分别设置在所述半导体基底相对的两端面上，用于激发所述发光单元发光，所述发光单元以二维点阵的形式分布在所述半导体基底上，其中至少三个相邻发光单元在半导体基底上非等间距排布，所述发光单元之间整体上的归一化相关系数的峰值大于或等于0.3而小于1。

2.如权利要求1所述的光源结构，其特征在于：所述发光单元中存在参考子区域，与该参考子区域之间的相关系数大于或等于预设阈值的发光单元子区域所组成的集合占全部发光单元的比例值与所述集合中各个发光单元子区域对应的相关系数的平均值的乘积大于或等于0.25而小于1。

3.如权利要求2所述的光源结构，其特征在于：所述参考子区域包括的发光单元个数占全部发光单元总数的比例大于或等于10％；或者

所述参考子区域包括十个以上发光单元。

4.如权利要求2所述的光源结构，其特征在于：所述相关系数为归一化相关系数，所述预设的相关系数阈值为0.3。

5.如权利要求2所述的光源结构，其特征在于：所述发光单元子区域所组成的集合占全部发光单元的比例值为所述发光单元子区域所组成的集合内包括的发光单元个数占全部发光单元总个数的比例；或者

所述发光单元子区域所组成的集合占全部发光单元的比例值为所述集合内的发光单元子区域的面积之和占整个发光区域总面积的比例。

6.如权利要求1所述的光源结构，其特征在于：所述发光单元之间整体上的归一化相关系数的峰值大于或等于0.4而小于或等于0.6。

7.如权利要求1所述的光源结构，其特征在于：所述发光单元之间整体上的归一化相关系数的峰值大于或等于0.4而小于或等于0.5。

8.如权利要求1所述的光源结构，其特征在于：所述发光单元之间整体上的归一化相关系数的峰值大于或等于0.3而小于或等于0.5。

9.如权利要求1或2任意一项所述的光源结构，其特征在于：全部所述发光单元的总个数大于或等于50。

10.一种光学投影模组，其特征在于，用于投射具有预设图案的图案化光束至被测目标物上进行三维感测，其包括光束调整元件、图案化光学元件及如权利要求1至9中任意一项所述的光源结构，所述光束调整元件用于对光源结构所发出的光束进行调整以使其满足预设的传播特性要求，所述图案化光学元件用于将光源结构发出的光场进行重新排布以形成具有预设图案的图案化光束。

11.一种感测装置，其特征在于，用于感测被测目标物的三维信息，其包括感测模组及如权利要求10所述的光学投影模组，所述感测模组用于感测所述光学投影模组在被测目标物上投射的预设图案并通过分析所述预设图案的图像获取被测标的物的三维信息。

12.一种设备，其特征在于，包括权利要求11所述的感测装置，所述设备根据所述感测装置所感测到的被测目标物的三维信息来执行相应功能。