[实用新型]一种用于多弧离子镀设备圆形平面多弧靶装置

说明书

本实用新型公开了一种用于多弧离子镀设备圆形平面多弧靶装置，靶座焊接在真空腔体上，密封绝缘垫安装在靶座上，靶连接法兰压住密封绝缘垫设置，连接螺丝绝缘套通过内六角螺丝固定安装在靶连接法兰的螺孔中，O型圈安装在靶连接法兰上，靶头绝缘垫安装在O型圈上，靶头装置安装在靶头绝缘垫上，靶头装置内部通过靶连接上压法兰固定有磁钢装置，靶材在真空侧通过螺丝固定在靶头装置上，屏蔽罩通过靶材装配在靶连接法兰上，靶头装置上还连接有外部接线柱，引弧装置安装在靶连接法兰上。本实用新型实现离子镀膜的最佳工艺，极大的提高生产效率，并提供一种气动控制式多弧靶引弧针，结构简单，引狐动作稳定、准确，密封可靠。

技术领域

本实用新型涉及的是镀膜技术领域，具体涉及一种用于多弧离子镀设备圆形平面多弧靶装置。

背景技术

在国内外，如今真空镀膜在机械、电子、能源、信息等领域已经得到了广泛应用，而在真空镀膜中，生产效率及质量非常受人关注。真空镀膜技术又称为气相沉积技术，主要包括物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积（CVD）。物理气相沉积是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子、或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法，物理气相沉积本身分为三种：真空蒸发镀膜、真空溅射镀和真空离子镀膜，近十年来发展相当快，已经成为当今最先进的表面处理方式之一。

本项目主要是关于真空离子镀领域，目前国内各厂家在多弧离子镀方面有如下一些缺点：溅射靶材上存在大颗粒，很难处理，磁场不可调引起功能比较单一，靶材利用率不好，浪费原材料；另外，阴极冷却不好，导致阴极体常常损坏。真空离子镀膜是通过离子镀膜机上的引弧针触碰靶材产生放电来实现，而现有技术中，引弧针触碰靶材的动作主要是由人工驱动，该结构存在触靶和脱离不稳定，触靶时间受人为因素影响很大，从而导致引弧针与靶材烧结等事情发生，影响生产作业。

综上所述，本实用新型设计了一种用于多弧离子镀设备圆形平面多弧靶装置。

发明内容

针对现有技术上存在的不足，本实用新型目的是在于提供一种用于多弧离子镀设备圆形平面多弧靶装置，实现离子镀膜的最佳工艺，极大的提高生产效率，并提供一种气动控制式多弧靶引弧针，结构简单，引狐动作稳定、准确，密封可靠。

为了实现上述目的，本实用新型是通过如下的技术方案来实现：一种用于多弧离子镀设备圆形平面多弧靶装置，包括靶座、密封绝缘垫、连接螺丝绝缘套、靶连接法兰、靶连接上压法兰、靶头绝缘垫、外部接线柱、靶材、屏蔽罩、磁钢装置、引弧装置和靶头装置，靶座焊接在真空腔体上，密封绝缘垫安装在靶座上，靶连接法兰压住密封绝缘垫设置，连接螺丝绝缘套通过内六角螺丝固定安装在靶连接法兰的螺孔中，O型圈安装在靶连接法兰上，靶头绝缘垫安装在O型圈上，靶头装置安装在靶头绝缘垫上，靶头装置内部通过靶连接上压法兰固定有磁钢装置，靶材在真空侧通过螺丝固定在靶头装置上，屏蔽罩通过靶材装配在靶连接法兰上，靶头装置上还连接有外部接线柱，引弧装置安装在靶连接法兰上。

作为优选，所述的靶头装置上设置有通向靶材的靶材冷却水进口和靶材冷却水出口；靶连接法兰上设置有靶连接法兰冷却水进口、靶连接法兰冷却水出口。

作为优选，所述的引弧装置包括汽缸、上连接法兰、支撑杆、绝缘导向板、下连接法兰、密封O型圈、密封骨架油封、导向杆绝缘套、引弧针、导向主杆、引弧连接线、引弧接线柱和支撑杆绝缘套，汽缸上固定有连接法兰，支撑杆通过支撑杆绝缘套固定在上连接法兰上，再连接至下连接法兰，导向主杆通过丝压固定在汽缸活塞杆上，导向主杆和汽缸活塞杆中间安装有绝缘导向板，导向主杆通过密封O型圈、密封骨架油封、导向杆绝缘套装配在一起，引弧针安装在导向主杆上，引弧接线柱连接在弧电源的引弧连接线上。

作为优选，所述的磁钢装置包括调节旋钮、调节拉杆、磁钢座上绝缘板、磁钢骨架、磁钢座和永磁钢，永磁钢安装在磁钢槽中，调节拉杆和磁钢骨架通过胶水固定在磁钢座上，磁钢座上绝缘板通过调节拉杆的丝压装配在一起，调节旋钮固定在调节拉杆上。

本实用新型具有以下有益效果：