[实用新型]晶圆加工装置有效
申请号: | 201821967353.9 | 申请日: | 2018-11-27 |
公开(公告)号: | CN208923049U | 公开(公告)日: | 2019-05-31 |
发明(设计)人: | 吴振维;王海宽;吴龙江;林宗贤 | 申请(专利权)人: | 德淮半导体有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/68;H01L21/304 |
代理公司: | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人: | 王宏婧 |
地址: | 223300 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 晶圆 晶圆加工 承载部件 本实用新型 边缘位置 晶圆边缘 限定部件 转动 部件安装 挡板结构 加工装置 转轴连接 可滚动 外侧壁 布设 偏移 种晶 转轴 承载 | ||
1.一种晶圆加工装置,其特征在于,包括:
一用于承载和固定晶圆的晶圆承载部件;
一用于转动所述晶圆的转轴,所述转轴连接所述晶圆承载部件以带动所述晶圆承载部件转动;以及,
至少一个用于限定所述晶圆的边缘位置的晶圆边缘限定部件,每个所述晶圆边缘限定部件安装在所述晶圆的边缘外侧,包括具有挡板结构的第一部件和沿所述晶圆的边缘布设的多个可滚动的第二部件,每个所述第二部件安装在所述第一部件和所述晶圆的边缘的外侧壁之间。
2.如权利要求1所述的晶圆加工装置,其特征在于,所述晶圆承载部件包括承载台以及设置于所述承载台上的吸盘或吸附孔,所述转轴固定连接所述承载台的底部。
3.如权利要求1所述的晶圆加工装置,其特征在于,多个所述晶圆边缘限定部件均匀地布设于所述晶圆的边缘外侧,且所有的所述晶圆边缘限定部件中的所述第二部件的数量完全相同或不完全相同。
4.如权利要求1所述的晶圆加工装置,其特征在于,所述第一部件的形状为圆弧形;所述第二部件的形状包括球形或圆柱形。
5.如权利要求1所述的晶圆加工装置,其特征在于,所述晶圆边缘限定部件能随所述晶圆的水平偏移而整体上进行适应性地水平移动。
6.如权利要求1至5中任一项所述的晶圆加工装置,其特征在于,所述晶圆加工装置为切割装置、清洗装置、边缘曝光装置或湿法刻蚀装置。
7.如权利要求6所述的晶圆加工装置,其特征在于,还包括设置在所述晶圆承载部件上方或下方的晶圆加工部件,所述晶圆加工部件的水平位置固定或者随所述晶圆边缘限定部件的水平位置变化而变化。
8.如权利要求7所述的晶圆加工装置,其特征在于,当所述晶圆加工装置为切割装置时,所述晶圆加工部件包括设置在所述晶圆承载部件的边缘上方且用于对所述晶圆的边缘进行切割的刀具,所述刀具的水平位置固定或者随所述晶圆边缘限定部件的水平位置变化而变化;当所述晶圆加工装置为清洗装置或湿法刻蚀装置时,所述晶圆加工部件包括用于对所述晶圆的边缘进行清洗或刻蚀的液槽,所述液槽固定设置于所述晶圆承载部件的下方;当所述晶圆加工装置为边缘曝光装置时,所述晶圆加工部件包括设置在所述晶圆承载部件的边缘上方且用于对所述晶圆的边缘进行曝光的曝光镜头组件,所述曝光镜头组件的水平位置固定或者随所述晶圆边缘限定部件的水平位置变化而变化。
9.如权利要求8所述的晶圆加工装置,其特征在于,所述刀具包括刀具本体和一连杆,刀具本体设置在所述连杆的一端上且可绕所述连杆旋转;所述晶圆加工部件还包括驱动装置,所述驱动装置与所述刀具和所述晶圆边缘限定部件电连接。
10.如权利要求9所述的晶圆加工装置,其特征在于,所述连杆的另一端与相应的所述晶圆边缘限定部件中的第一部件连接。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造