[实用新型]铜铟镓硒薄膜太阳能电池电极有效
申请号: | 201821983915.9 | 申请日: | 2018-11-29 |
公开(公告)号: | CN208970521U | 公开(公告)日: | 2019-06-11 |
发明(设计)人: | 李刚;王天齐;彭塞奥;姚婷婷;金克武 | 申请(专利权)人: | 中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司 |
主分类号: | H01L31/0224 | 分类号: | H01L31/0224;H01L31/0445 |
代理公司: | 安徽省蚌埠博源专利商标事务所 34113 | 代理人: | 陈俊 |
地址: | 233010 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电极 阻挡层 膜层 铜铟镓硒薄膜太阳能电池 金属层 铜铟镓硒薄膜电池 玻璃基板表面 玻璃基板顶面 磁控溅射工艺 本实用新型 薄膜电池 玻璃基板 依次层叠 溅镀 制备 | ||
本实用新型公开铜铟镓硒薄膜太阳能电池电极,包括玻璃基板,玻璃基板顶面由下至上依次层叠有第一阻挡层、金属层、内Mo层、第二阻挡层与外Mo层;第一阻挡层为厚度10~200nm的SiN膜层或SiOxNy膜层;金属层为厚度20~200nm的Al层或Cu层;第二阻挡层为厚度5~50nm的MoN膜层或TiN膜层;内Mo层的厚度为100~800nm,所述外Mo层的厚度为20~200nm;通过磁控溅射工艺在玻璃基板表面溅镀各膜层即得到本电极,电极在有效降低铜铟镓硒薄膜电池成本的同时,更进一步提高了薄膜电池的性能,且工艺简单,制备方便。
技术领域
本实用新型涉及薄膜太阳能电池技术领域,具体是一种铜铟镓硒薄膜太阳能电池电极。
背景技术
太阳能光伏发电是零排放的清洁能源,具有安全可靠、无噪音、无污染、资源取之不尽、建设周期短、使用寿命长等优势,因而备受关注。铜铟镓硒(CIGS)是一种直接带隙的P型半导体材料,其吸收系数高达105/cm,2μm厚的CIGS薄膜就可吸收90%以上的太阳光。CIGS薄膜的带隙从1.04eV到1.67eV范围内连续可调,可实现与太阳光谱的最佳匹配。CIGS薄膜太阳能电池作为新一代的薄膜电池具有性能稳定、抗辐射能力强、弱光也能发电等优点,其转换效率在薄膜太阳能电池中是最高的,2017年已达到22.6%的转化率,因此日本、德国等国家都投入巨资进行研究和产业化。
在制备CIGS薄膜太阳能电池的过程中,获得高质量的背电极非常重要。背电极的质量直接影响CIGS 吸收层薄膜的结晶、生长及表面形貌,进而对电池性能产生重要影响。在CIGS 吸收层制备过程中,金属钼(Mo)不易同铜(Cu)或铟(In)合金化,不易在CIGS 吸收层中扩散,具备较高的稳定性,并且同CIGS 吸收层之间具有较低的接触阻抗,使其成为CIGS 薄膜太阳能电池优选背电极材料。
然而,金属钼作为一种稀有金属,其价格相对较高。在量产制造时,如何制备低成本、高效率的铜铟镓硒薄膜太阳能电池,是目前最值得开发研究的课题之一。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供铜铟镓硒薄膜太阳能电池电极,该电极在有效降低铜铟镓硒薄膜电池成本的同时,更进一步提高了薄膜电池的性能,且工艺简单,制备方便。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:
铜铟镓硒薄膜太阳能电池电极,包括玻璃基板,玻璃基板顶面由下至上依次层叠有第一阻挡层、金属层、内Mo层、第二阻挡层与外Mo层;
所述第一阻挡层为厚度10~200nm 的SiN膜层或SiOxNy膜层;
所述金属层为厚度20~200nm的Al层或Cu层;
所述第二阻挡层为厚度5~50nm 的MoN膜层或TiN膜层;
所述内Mo层的厚度为100~800nm,所述外Mo层的厚度为20~200nm。
本实用新型的有益效果是,通过在第一阻挡层上增加金属层,同时减薄内Mo膜层厚度,一方面减少了稀有金属Mo的使用量,有效地降低了铜铟镓硒薄膜太阳能电池背电极成本;另一方面,Al、Cu等金属具有更优的反射性能,高的反射率可以反射更多透过CIGS吸收层的入射光,增大入射光辐射在CIGS吸收层的光程,增加光生载流子在P-N 结区产生的几率,从而提高薄膜电池的短路电流及光电转换效率。
附图说明
下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明:
图1是本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
如图1所示,本实用新型提供铜铟镓硒薄膜太阳能电池电极,包括玻璃基板1,玻璃基板1顶面由下至上依次层叠有第一阻挡层2、金属层3、内Mo层4、第二阻挡层5与外Mo层6;
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的