[实用新型]一种透明导电膜

说明书

本实用新型涉及一种透明导电膜，其包括透明基片以及依次层叠设置在透明基层上的介质层、种子层、功能层和保护层，所述功能层为金属导电层，其厚度为2‑15nm。本实用新型通过采用金属导电层形成功能层，并将功能层的厚度设置在2‑15nm的范围内，使得透明导电膜的面电阻在10Ω/㎡以下，且透明导电膜的厚度并不会过厚，使得该透明导电膜可以应用于大屏幕触摸屏上。

技术领域

本实用新型涉及导电膜技术领域，具体涉及一种透明导电膜。

背景技术

TCO（Transparent Conductive Oxide）玻璃，即透明导电氧化镀膜玻璃，是在玻璃表面用过物理或者化学镀膜的方法均匀镀上一层透明的导电氧化物薄膜，主要包括In、Sn、Zn和Cd的氧化物及其复合多元氧化物薄膜材料。

目前，在TCO玻璃中，有产业化生产的普遍是ITO透明导电膜玻璃。但ITO透明导电膜玻璃制备工艺复杂成本高：首先，ITO透明导电膜玻璃是氧化铟（98%）与氧化锡（2%）复合材料，铟是稀有金属，材料较贵，成本高；其次，ITO透明导电膜玻璃制备时为了能到达较高透过率，必须将玻璃基片加热到350℃，势必对设备本身投入及维护成本大大增加；最后，ITO透明导电膜玻璃的面电阻在20Ω/cm²以上，面电阻较高，在制作65寸以上的触摸屏时阻抗大，触摸不灵，也就是说，ITO透明导电膜玻璃无法应用在大屏幕触摸屏上。若要降低ITO透明导电膜玻璃的面电阻，那么其厚度必然要增加，这无疑增加了耗材和成本，且工艺也更加复杂，厚度增加了也会限制其在大屏幕触摸屏上的应用。

实用新型内容

针对以上问题，本实用新型的目的在于提供一种透明导电膜，该透明导电膜的面电阻小，可应用于大屏幕触摸屏上。

为实现上述目的，本实用新型采用的技术方案是：

一种透明导电膜，其包括透明基片以及依次层叠设置在透明基层上的介质层、种子层、功能层和保护层，所述功能层为金属导电层，其厚度为2-15nm。

所述功能层由银、铜、铝中的一种或其合金构成。

所述透明基片为透明玻璃、PET塑料薄膜或者有机玻璃。

所述介质层厚度2-45nm，该介质层由氧化钛、氧化锌锡、氧化锡、氧化铌、氧化铝、氧化锌铝、氧化硅、氧化锌、氧化铋、氮化硅中的一种或几种构成。

所述种子层厚度为2-40nm，该种子层由氧化锌铝、氧化锌、氧化锌锡、氧化锡中的一种或几种构成。

所述保护层厚度为5-50nm，其由氧化锌铝、氧化锌、氧化锌锡、氧化锡中的一种或几种构成。

采用上述方案后，本实用新型通过采用金属导电层形成功能层，并将功能层的厚度设置在2-15nm的范围内，使得透明导电膜的面电阻在10Ω/㎡以下，且透明导电膜的厚度并不会过厚，使得该透明导电膜可以应用于大屏幕触摸屏上。

而且，因功能层为金属导电层，在常温下其导电良好，不需要进行高温重结晶，所以，在常温的条件下即可通过真空磁控溅射镀膜方法在透明基片上溅射形成介质层、种子层、功能层和保护层，所形成的透明导电膜的导电率好，且不需要将透明基片加热，从而减少了对设备本身投入以及降低了维护成本。

附图说明

图1为本实用新型之透明导电膜的结构示意图；

图2为本实用新型之透明导电膜的制备流程图。

具体实施方式

如图1所示，本实用新型揭示了一种透明导电膜，其包括透明基片1以及依次层叠设置在透明基片1上的介质层2、种子层3、功能层4和保护层5。