[实用新型]一种表面疏水的沉淀二氧化硅生产设备

权利要求书

1.一种表面疏水的沉淀二氧化硅生产设备，包括反应箱体(1)，其特征在于：所述反应箱体(1)顶端的中部开设有密封卡槽(2)，所述密封卡槽(2)内腔的底部卡接有密封圈(3)，所述密封圈(3)活动套接在透明导入管(4)的外部，所述透明导入管(4)的底端固定连接有连接内管(5)，所述连接内管(5)的外侧与连接外管(6)的内壁螺纹连接，所述连接外管(6)固定安装在安装顶板(7)的中部，所述连接外管(6)的中部活动套接有控量组件(8)，所述反应箱体(1)一侧的顶端固定连接有与反应箱体(1)的内腔相贯通的物料管(9)，且反应箱体(1)的另一侧固定安装有驱动马达(10)，所述驱动马达(10)的输出端固定连接有连轴(11)，所述连轴(11)远离驱动马达(10)的一端与传动组件(12)的正侧固定连接，所述传动组件(12)远离连轴(11)的一端与混合转杆(13)的一端固定连接，所述混合转杆(13)的另一端与反应箱体(1)腔壁上设有的转动杆的中部固定连接，所述混合转杆(13)的外部固定安装有混合转叶(14)。

2.根据权利要求1所述的一种表面疏水的沉淀二氧化硅生产设备，其特征在于：所述控量组件(8)包括导流罩盘(81)，所述导流罩盘(81)的中部活动套接有压缩弹簧(82)，所述压缩弹簧(82)的顶端与橡胶塞板(83)底端的中部固定连接，且压缩弹簧(82)的底端与反应箱体(1)内腔底端的中部固定连接，所述橡胶塞板(83)外侧透明导入管(4)的外部均匀分布有容量指示标线。

3.根据权利要求1所述的一种表面疏水的沉淀二氧化硅生产设备，其特征在于：所述传动组件(12)包括传动皮带(121)，所述传动皮带(121)左右两侧的中部均活动套接有传动带盘(122)，所述传动带盘(122)的内侧固定连接有传动轴(123)，所述传动轴(123)远离传动带盘(122)的一端贯穿并延伸至反应箱体(1)的内腔且与混合转杆(13)的一端固定连接，所述传动轴(123)与反应箱体(1)接触面的外部转动套接有转动套管(124)，所述转动套管(124)固定安装在反应箱体(1)的外侧。

4.根据权利要求1所述的一种表面疏水的沉淀二氧化硅生产设备，其特征在于：所述混合转杆(13)的数量为两个，两个所述混合转杆(13)的一端分别与两个传动带盘(122)内侧传动轴(123)远离传动带盘(122)的一端固定连接，两个混合转杆(13)错位分布且分别位于反应箱体(1)内腔上下两端的左右两侧。

5.根据权利要求1所述的一种表面疏水的沉淀二氧化硅生产设备，其特征在于：所述混合转叶(14)为弧形实心板，且混合转叶(14)的一侧设有深度为混合转叶(14)厚度五分之三的导流孔，两个混合转杆(13)外侧混合转叶(14)远离混合转杆(13)的一端相对且错位分布，所述混合转叶(14)与反应箱体(1)内腔的底部、导流罩盘(81)均不接触。

6.根据权利要求1所述的一种表面疏水的沉淀二氧化硅生产设备，其特征在于：所述安装顶板(7)由两个成十字形相交的矩形条板组成，两个矩形条板相交处固定套接有连接外管(6)，所述连接外管(6)的中部开设有与连接内管(5)外侧的外螺纹相适配的内螺纹，且连接内管(5)的外部与连接外管(6)的内壁螺纹连接。

7.根据权利要求2所述的一种表面疏水的沉淀二氧化硅生产设备，其特征在于：所述导流罩盘(81)由顶连管和底罩盘组成，其中顶连管的顶端与安装顶板(7)的底部固定连接且底罩盘为圆台中空状，顶连管的内径大于连接外管(6)的外径，所述导流罩盘(81)上方橡胶塞板(83)的外侧与透明导入管(4)的腔壁滑动连接。