[实用新型]小磁瓦微缺陷视觉检分装置有效
申请号: | 201822008652.6 | 申请日: | 2018-12-03 |
公开(公告)号: | CN209764745U | 公开(公告)日: | 2019-12-10 |
发明(设计)人: | 孔卓;伍俊露;潘岩;王宏鹏;朱琳;张露滨;姚卓斌;汪子杰;李俊峰;沈军民 | 申请(专利权)人: | 浙江理工大学 |
主分类号: | G01N21/89 | 分类号: | G01N21/89 |
代理公司: | 33212 杭州中成专利事务所有限公司 | 代理人: | 金祺 |
地址: | 310018 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 磁瓦 工位 收集装置 检测 本实用新型 电磁铁 周向均匀设置 电磁铁位置 电机转速 工位检测 框架装置 品质好坏 剔除机构 剔除装置 相机位置 准确检测 存储仓 分装置 万向轮 微缺陷 滑梯 监测 舵机 可调 剔除 搬运 调试 视觉 | ||
本实用新型提供一种小磁瓦微缺陷视觉检分装置:包括圆盘、正面检测工位、上面检测工位、反面监测工位、电磁铁剔除装置和磁瓦收集装置,正面检测工位、上面检测工位、反面监测工位和磁瓦收集装置周向均匀设置在圆盘正上方,磁瓦剔除机构与磁瓦收集装置配合使用;本实用新型电机转速、相机位置和电磁铁位置都可调,可根据实际的工程需要方便调试;整个型材框架装置底部装有万向轮方便搬运;经过相应工位检测后能准确检测出小磁瓦的品质好坏,并且能准确地在剔除小磁瓦,根据检测出来的小磁瓦合格或缺陷种类控制舵机滑梯的倾斜角度,使小磁瓦进入相应的存储仓。
技术领域
本实用新型涉及一种磁瓦处理装置,具体涉及一种小磁瓦微缺陷视觉检分装置。
背景技术
目前磁瓦的缺陷特征均采用人工目测检测缺陷。人工检测方法主要依靠进行过一定培训的质检人员根据自身的经验通过观察、量具测量和触摸等手段来进行磁瓦质量的判定,存在很多局限性和缺点。
由于工人的自身能力差异,存在一定的偶然性,评判的标准不一;检测速度非常慢,难以满足目前的生产速度和要求;并且,检测的结果易受质检人员视觉疲劳、熟练水平、情绪波动等因素的影响,在精度和稳定性上都难以保证,从而导致误判、漏判、错判的情况发生。
人为的接触也有一定的几率损坏磁材,直接导致企业的经济损失;检测人员长时间接触磁性材料会对人身体健康产生一定的不良反应,进而企业招工困难。因此,如何快速精确检验小型磁瓦零件的表面缺陷成为急需解决的问题。
因此,需要对现有技术进行改进。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是提供一种高效的小磁瓦微缺陷视觉检分装置。
为解决上述技术问题,本实用新型提供一种小磁瓦微缺陷视觉检分装置:包括圆盘、正面检测工位、上面检测工位、反面监测工位、磁瓦剔除机构和磁瓦收集装置;
所述正面检测工位、上面检测工位、反面监测工位和磁瓦收集装置周向均匀设置在圆盘正上方;
所述正面检测工位包括相机一、碗状光源一和条形光源一,条形光源一的数量为两个;所述相机一的镜头从圆盘边缘位置朝向圆盘中心位置;两个条形光源一分别设置在相机一的镜头的两侧,且两个条形光源一正对着相机一的镜头的正前方;所述碗状光源一竖直向下朝向圆盘且位于相机一的镜头的正前方的正上方;
所述上面检测工位包括相机二和碗状光源二;所述碗状光源二的轴心位置开孔,碗状光源二竖直向下朝向圆盘,相机二的镜头对准碗状光源二的轴心位置朝向圆盘;
所述反面监测工位包括相机三和条形光源三,条形光源三的数量为两个;所述相机三的镜头从圆盘中心位置朝向圆盘边缘位置;两个条形光源三分别设置在相机三的镜头的两侧,且两个条形光源三正对着相机三的镜头的正前方;
所述磁瓦剔除机构与磁瓦收集装置配合使用;
所述磁瓦剔除机构位于圆盘中间位置的正上方;所述磁瓦剔除机构包括带槽底板、滑轨和电磁铁;所述带槽底板上周向均匀设置有至少两个弧形的卡槽;所述滑轨沿着其长度方向等距设置有至少两个滑轨孔,固定件穿过滑轨孔后伸入卡槽从而固定滑轨和带槽底板;所述电磁铁设置在滑轨尾端;
所述磁瓦收集装置包括传送带、舵机、滑板、滑梯和分层储存仓;所述滑轨尾端正对着传送带首端,传送带首端与圆盘边缘连接,舵机固定设置在传送带尾端,滑板首端通过舵机与传送带转动链接;所述分层储存仓包括从下到上依次的三个储存仓,滑梯的数量为三个,三个滑梯尾端分别与三个储存仓连接,滑板尾端与其中一个滑梯首端连接。
作为对本实用新型小磁瓦微缺陷视觉检分装置的改进:
所述正面检测工位还包括传感器一和与相机一配合使用的背景板一;所述传感器一与相机一信号连接;
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