[实用新型]一种渐变型散射结构光谱分析装置有效
| 申请号： | 201822018496.1 | 申请日： | 2018-12-04 |
| 公开（公告）号： | CN209280141U | 公开（公告）日： | 2019-08-20 |
| 发明（设计）人： | 郝鹏;陈俊英 | 申请（专利权）人： | 河北大学 |
| 主分类号： | G01J3/44 | 分类号： | G01J3/44;G01J3/02 |
| 代理公司： | 石家庄国域专利商标事务所有限公司 13112 | 代理人： | 胡素梅 |
| 地址： | 071002 河北*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 散射粒子层 透镜 共焦 光电探测器阵列 光谱分析装置 本实用新型 渐变结构 散射光斑 散射结构 渐变型 光谱 基底 复原 矩阵 高光谱分辨率 线性方程组 光谱分析 光谱复原 孔径光阑 散射粒子 有效解决 入射光 散射光 透明的 正则化 求解 加权 分段 矛盾 | ||
【权利要求书】：
1.一种渐变型散射结构光谱分析装置，其特征是，包括一透明基底，在所述基底表面设有一散射粒子层，所述散射粒子层具有渐变结构特征，散射粒子层的渐变结构特征表现为散射粒子尺寸、密度和/或折射率呈渐变分布，渐变结构特征的渐变形式为散射或辐射；在所述基底的上方设有两个共焦透镜，在两个共焦透镜之间设有一孔径光阑；在所述基底的下方设有光电探测器阵列。
2.根据权利要求1所述的渐变型散射结构光谱分析装置，其特征是，在所述基底和所述光电探测器阵列之间设有一厚度可调的距离匹配层。
3.根据权利要求1所述的渐变型散射结构光谱分析装置，其特征是，所述散射粒子层上的散射粒子的尺寸为纳米量级至微米量级。
4.根据权利要求1所述的渐变型散射结构光谱分析装置，其特征是，所述散射粒子层设置在所述基底的上表面或下表面。
5.根据权利要求1所述的渐变型散射结构光谱分析装置，其特征是，所述散射粒子层通过光刻、电子束刻蚀、纳米自组装、蒸镀或旋涂工艺制成。
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