[实用新型]真空电子束镀膜装置有效
| 申请号： | 201822030867.8 | 申请日： | 2018-12-04 |
| 公开（公告）号： | CN209144245U | 公开（公告）日： | 2019-07-23 |
| 发明（设计）人： | 赖奇;廖先杰;肖传海;彭富昌;邹宇;李俊瀚;江思媛;黄双华;范立男 | 申请（专利权）人： | 攀枝花学院;成都天宇坤实机电设备有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/30 | 分类号： | C23C14/30 |
| 代理公司： | 成都虹桥专利事务所(普通合伙) 51124 | 代理人： | 许泽伟 |
| 地址： | 617000 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 真空室 镀膜 电子束炉 连通 后置 前置 本实用新型 真空电子束 镀膜工件 镀膜装置 加热真空 冷却真空 镀膜层 晶粒组织结构 氧化成氧化物 材料内部 镀膜材料 镀膜效率 多级加热 多级冷却 耐腐蚀性 真空环境 出口端 进口端 单级 加热 冷却 取出 金属 | ||
1.真空电子束镀膜装置，其特征在于：包括电子束炉(1)、前置真空室(2)、加热真空室(4)、后置真空室(3)和冷却真空室(5)；所述前置真空室(2)连通在电子束炉(1)的进口端，加热真空室(4)连通在前置真空室(2)与电子束炉(1)之间；所述后置真空室(3)连通在电子束炉(1)的出口端，冷却真空室(5)连通在后置真空室(3)与电子束炉(1)之间；所述电子束炉(1)由至少一个工作腔(11)组成，每个工作腔(11)内设有至少一把电子枪(12)。
2.如权利要求1所述的真空电子束镀膜装置，其特征在于：所述电子束炉(1)由1～3个连通的工作腔(11)组成，每个工作腔(11)内设有1～2把电子枪(12)。
3.如权利要求1或2所述的真空电子束镀膜装置，其特征在于：所述前置真空室(2)由至少两个连通的前置真空腔(21)组成，所述后置真空室(3)由至少两个连通的后置真空腔(31)组成，所述前置真空腔(21)与后置真空腔(31)内都设有平板真空装置。
4.如权利要求3所述的真空电子束镀膜装置，其特征在于：所述前置真空室(2)由2～8个连通的前置真空腔(21)组成，所述后置真空室(3)由2～8个连通的后置真空腔(31)组成。
5.如权利要求1或2所述的真空电子束镀膜装置，其特征在于：所述加热真空室(4)由至少一个加热真空腔(41)组成，所述冷却真空室(5)由至少两个冷却真空腔(51)组成；所述加热真空腔(41)内设有平板真空加热装置，所述冷却真空腔(51)内设有平板真空冷却装置。
6.如权利要求5所述的真空电子束镀膜装置，其特征在于：所述加热真空室(4)由1～4个连通的加热真空腔(41)组成，所述冷却真空室(5)由2～4个连通的冷却真空腔(51)组成。
7.如权利要求1或2所述的真空电子束镀膜装置，其特征在于：所述电子枪(12)倾斜设置，倾斜角度为10～40°。
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