[实用新型]用于颗粒物粒径测量的激光测径系统和质谱仪

权利要求书

1.一种用于颗粒物粒径测量的激光测径系统，其特征在于，包括激光器、分光装置、真空反射装置、基板、第一固定板以及第二固定板；

所述激光器设在所述基板上，且所述激光器能够相对于所述基板移动；

所述分光装置设在所述第一固定板上，用于将所述激光器发出的一束激光分成两束平行的激光束；

所述真空反射装置设在所述第二固定板上，用于将所述分光装置分成的两束平行的激光束反射入质谱仪的真空腔。

2.根据权利要求1所述的用于颗粒物粒径测量的激光测径系统，其特征在于，所述分光装置包括：分光半反射镜、分光全反射镜、第一分光反射镜架以及第二分光反射镜架；

所述分光半反射镜与所述分光全反射镜分别设在所述第一分光反射镜架和所述第二分光反射镜架上；

所述分光半反射镜将所述激光器发出的一束激光分成两束光，其中透过所述分光半反射镜的为第一光束，经过所述分光半反射镜反射到所述分光全反射镜的为第二光束；经所述分光全反射镜反射的光为第三光束，所述第一光束平行于所述第三光束；

所述真空反射装置用于将所述第一光束和所述第三光束反射入所述质谱仪的真空腔。

3.根据权利要求2所述的用于颗粒物粒径测量的激光测径系统，其特征在于，所述真空反射装置包括真空反射镜以及真空反射镜架，所述真空反射镜设在所述真空反射镜架上；

所述第一光束与所述第三光束经所述真空反射镜的反射后进入所述质谱仪的真空腔。

4.根据权利要求3所述的用于颗粒物粒径测量的激光测径系统，其特征在于，所述真空反射镜有两个，分别为第一真空反射镜和第二真空反射镜；

所述真空反射镜架有两个，分别为第一真空反射镜架与第二真空反射镜架；

所述第一真空反射镜和所述第二真空反射镜分别设在所述第一真空反射镜架与所述第二真空反射镜架上；

所述第一光束与所述第三光束分别经过所述第一真空反射镜与所述第二真空反射镜反射后射入所述质谱仪的真空腔。

5.根据权利要求4所述的用于颗粒物粒径测量的激光测径系统，其特征在于，所述第一真空反射镜架和所述第二真空反射镜架通过所述第二固定板固定，所述第二固定板设有两个孔，分别为第一孔和第二孔，且所述第一孔和所述第二孔分别与所述第一真空反射镜和所述第二真空反射镜相对应；

所述第一光束通过所述第一孔到达所述第一真空反射镜；

所述第三光束通过所述第二孔到达所述第二真空反射镜。

6.根据权利要求4所述的用于颗粒物粒径测量的激光测径系统，其特征在于，所述分光半反射镜与所述分光全反射镜设在所述第一固定板上，且所述激光器发出的激光束的传导方向与所述分光半反射镜的和所述第一真空反射镜的中心连线重合，所述分光半反射镜与所述第一真空反射镜的中心连线平行于所述分光全反射镜与所述第二真空反射镜的中心连线。

7.一种质谱仪，其特征在于，包括质量分析器和权利要求1～6任意一项所述的用于颗粒物粒径测量的激光测径系统，所述激光测径系统设于质量分析器腔体壁上。

8.根据权利要求7所述的质谱仪，其特征在于，所述质量分析器腔体壁上设有底座，所述基板设在所述底座上，且所述基板能够相对于所述底座移动；

所述第一固定板设在所述基板上，且所述第一固定板能够相对于所述基板移动。

9.根据权利要求7所述的质谱仪，其特征在于，所述质量分析器腔体壁上还设有固定支架，所述真空反射装置设在所述固定支架上。

10.根据权利要求8所述的质谱仪，其特征在于，所述底座上设有光路调节块，所述光路调节块连接所述基板，所述基板能够相对于所述底座进行平移。