[实用新型]一种真空镀膜机卷绕机有效

专利信息
申请号: 201822044846.1 申请日: 2018-12-07
公开(公告)号: CN209368352U 公开(公告)日: 2019-09-10
发明(设计)人: 龙志光 申请(专利权)人: 深圳市超为龙科技有限公司
主分类号: C23C14/56 分类号: C23C14/56;C23C14/35
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518100 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 镀膜滚筒 涨紧槽 薄膜基 过渡辊 膜卷 本实用新型 真空镀膜机 安装基板 磁控溅射 卷绕机 收膜卷 涨紧辊 基板中部 双面镀膜 外壁安装 运动路径 等距 基板 卡槽 左部 左端 紧凑 松动 占用
【说明书】:

实用新型公开了一种真空镀膜机卷绕机,包括安装基板、放膜卷、收膜卷、第一镀膜滚筒、第二镀膜滚筒、磁控溅射、过渡辊、涨紧槽、卡槽、涨紧辊,所述基板上下部安装有放膜卷和收膜卷,所述基板中部两侧安装有第一镀膜滚筒和第二镀膜滚筒,所述第一镀膜滚筒、第二镀膜滚筒外壁安装有磁控溅射,所述防膜卷左部固定有过渡辊,所述过渡辊下方开有涨紧槽,所述涨紧槽左端阵列有三个等距的卡槽,所述涨紧辊设于涨紧槽上。本实用新型能够实现薄膜基膜双面镀膜,且薄膜基膜运动路径紧凑,节省了安装基板占用面积,并避免了薄膜基膜的松动。

技术领域

本实用新型涉及一种卷绕机,尤其涉及一种真空镀膜机卷绕机。

背景技术

真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。镀膜机的卷绕方式一般只能对薄膜基膜单面镀膜,再将单面镀成的膜从新放置防磨卷进行背面镀膜,极大的影响了生产效率,而薄膜基膜在经过过渡辊时,会由涨紧度不够使薄膜基膜松散,致使薄膜基膜的镀层不够均匀,影响产品品质。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种真空镀膜机卷绕机,以解决上述技术问题。

为实现上述目的本实用新型采用以下技术方案:

一种真空镀膜机卷绕机,包括安装基板、放膜卷、收膜卷、第一镀膜滚筒、第二镀膜滚筒、磁控溅射、过渡辊、涨紧槽、卡槽、涨紧辊,所述基板上下部安装有放膜卷和收膜卷,所述基板中部两侧安装有第一镀膜滚筒和第二镀膜滚筒,所述第一镀膜滚筒、第二镀膜滚筒外壁安装有磁控溅射,所述放膜卷左部固定有过渡辊,所述过渡辊下方开有涨紧槽,所述涨紧槽左端阵列有三个等距的卡槽,所述涨紧辊设于涨紧槽上。

在上述技术方案基础上,所述涨紧辊包括滑垫、卡轴、固定轴、涨紧辊、定位旋钮,所述滑垫与涨紧槽内壁滑动连接,所述滑垫左侧一体成型有卡轴,所述卡轴与卡槽扣接,所述滑垫顶面垂直设有固定轴,所述涨紧辊套接于固定轴外壁,所述定位旋钮与卡轴顶部螺纹连接,且定位旋钮底面抵于卡槽顶面。

在上述技术方案基础上,薄膜基膜的卷绕路径由放膜卷、过渡辊、涨紧辊、第一镀膜滚筒、第二镀膜滚筒至收膜卷。

在上述技术方案基础上,所述第一镀膜滚筒和第二镀膜滚筒结构及大小相同,且内部温度可控。

与现有技术相比,本实用新型具有以下优点:本实用新型的第一镀膜滚筒和第二镀膜滚筒能够实现薄膜基膜双面镀膜,且薄膜基膜运动路径紧凑,节省了安装基板占用面积,涨紧辊能够对薄膜基膜卷绕第一镀膜滚筒之前进行涨紧调控,避免了薄膜基膜松动,也能够改变薄膜基膜与卷绕第一镀膜滚筒的接触面积。

附图说明

图1为本实用新型主视示意图。

图2为本实用新型薄膜基膜卷绕路径主视图。

图3为本实用新型涨紧槽和卡槽外观结构示意图。

图4为本实用新型涨紧辊装配示意图。

图中:1、安装基板,2、放膜卷,3、收膜卷,4、第一镀膜滚筒,5、第二镀膜滚筒,6、磁控溅射,7、过渡辊,8、涨紧槽,9、卡槽,10、涨紧辊,11、薄膜基膜,12、滑垫,13、卡轴,14、固定轴,15、涨紧辊,16、定位旋钮。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步详细阐述。

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