[实用新型]双室三工位多靶共溅磁控溅射镀膜设备

权利要求书

1.一种双室三工位多靶共溅磁控溅射镀膜设备，其特征在于，具有第一镀膜室、第二镀膜室以及室外装卸工位，其中：

所述第一镀膜室的真空腔体内具有若干根直流磁控溅射靶，在直流磁控溅射靶的中心处同轴布置有第一拨盘，所述第一拨盘的周围设有第一传动齿，在第一拨盘的外周设有第一轨道，第一轨道上的集热管小车能够被所述第一拨盘的第一传动齿带动而在所述第一轨道上移动；

所述第二镀膜室的真空腔体内具有数根直流磁控溅射靶与数根中频磁控溅射靶，在所述数根直流磁控溅射靶与数根中频磁控溅射靶的中心处同轴布置有能够旋转的第二拨盘，所述第二拨盘的周围设有第二传动齿，在第二拨盘的外周设有第二轨道，第二轨道上的集热管小车能够被所述第二拨盘的第二传动齿带动而在所述第二轨道上移动；

所述室外装卸工位中部设置有能够旋转的室外拨盘，在室外拨盘的外围设有室外轨道，室外拨盘圆周设有室外传动齿，所述室外传动齿能够带动室外轨道上的集热管小车旋转移动；

在第一镀膜室与第二镀膜室之间设有真空通道，在真空通道上设有第一板式真空门，在真空通道内还配置有能够将第一轨道与第二轨道相互连通的交换轨道；

在第一镀膜室与室外装卸工位之间设有连接通道，在连接通道上设有第二板式真空门，在连接通道内还配置有能够将第一轨道与室外轨道相互连通的输送轨道。

2.根据权利要求1所述的双室三工位多靶共溅磁控溅射镀膜设备，其特征在于：每个所述集热管小车上设有多个集热管支架，每个集热管支架可供安装一根集热管，多个集热管支架能够绕所述集热管小车同心旋转。

3.根据权利要求1所述的双室三工位多靶共溅磁控溅射镀膜设备，其特征在于：所述第一镀膜室设置有进气孔，进气孔通过进气阀门连接有干燥气体发生器。

4.根据权利要求3所述的双室三工位多靶共溅磁控溅射镀膜设备，其特征在于：所述的干燥气体发生器是单独的氩气、氮气、氧气的干燥正压气体储存容器，或者是能够对气体进行干燥除油处理的空气压缩机。

5.根据权利要求3所述的双室三工位多靶共溅磁控溅射镀膜设备，其特征在于：在第一镀膜室与第二板式真空门之间的连接通道上设有补气管道，所述补气管道也连通至所述干燥气体发生器。

6.根据权利要求1所述的双室三工位多靶共溅磁控溅射镀膜设备，其特征在于：第一镀膜室与第二镀膜室分别连接有第一抽真空设备与第二抽真空设备。

7.根据权利要求1所述的双室三工位多靶共溅磁控溅射镀膜设备，其特征在于：在第一镀膜室的内壁与其内部的集热管小车之间布置有多个第一布气管，第一布气管连接氩气，而且第一布气管连接质量流量计。

8.根据权利要求1所述的双室三工位多靶共溅磁控溅射镀膜设备，其特征在于：在第二镀膜室的内壁与其内部的集热管小车之间布置有多个第二布气管，每两个相邻磁控溅射靶之间布置一组三根第二布气管，三根第二布气管分别连接氩气、氮气和氧气，而且每根第二布气管连接质量流量计。

9.根据权利要求1所述的双室三工位多靶共溅磁控溅射镀膜设备，其特征在于：第一镀膜室的若干根直流磁控溅射靶和第二镀膜室的数根直流磁控溅射靶共用一套电源。