[实用新型]一种氮化硅研磨装置

权利要求书

1.一种氮化硅研磨装置，其特征在于，包括：

底座；

移动体，所述移动体上设有竖向布置的导向件，所述移动体可移动地设置于所述底座；

第一驱动装置，所述第一驱动装置用于驱动所述移动体相对所述底座竖向移动；

研磨装置，所述研磨装置包括转轴、研磨轮和第二驱动装置，所述转轴竖向布置于所述移动体，研磨轮设于所述转轴的底端，所述第二驱动装置用于驱动所述转轴相对所述移动体转动；

盛装体，所述盛装体连接于所述底座，所述盛装体内部形成具有顶部开口的容纳空间，所述容纳空间用于容纳氮化硅，所述第一驱动装置驱动所述移动体竖向向下移动能够使所述研磨轮进入所述容纳空间；及其

活动压板，所述活动压板可移动地设置于所述导向件，所述活动压板能够沿所述导向件竖向移动，所述活动压板位于所述研磨轮的上方，所述活动压板与所述导向件间设有弹性件，所述第一驱动装置驱动所述移动体竖向向下移动能够使所述活动压板进入所述容纳空间并压紧所述氮化硅。

2.根据权利要求1所述的氮化硅研磨装置，其特征在于，所述活动压板为圆形，所述活动压板的直径与所述盛装体的内径相匹配。

3.根据权利要求1所述的氮化硅研磨装置，其特征在于，所述导向件被配置为套筒，所述转轴穿设于所述套筒内。

4.根据权利要求1所述的氮化硅研磨装置，其特征在于，所述盛装体与所述底座转动连接，所述盛装体相对所述底座转动能够使所述盛装体位于研磨位置或倾倒位置；

当所述盛装体位于所述研磨位置时，所述开口朝上，所述第一驱动装置驱动所述移动体竖向向下移动能够使所述研磨轮和活动压板进入所述容纳空间；

当所述盛装体位于所述倾倒位置时，所述开口斜向朝下。

5.根据权利要求4所述的氮化硅研磨装置，其特征在于，所述底座具有接触面；

当所述盛装体位于研磨位置时，所述盛装体的底面与所述接触面接触。

6.根据权利要求1所述的氮化硅研磨装置，其特征在于，所述底座上设有竖向布置的导向套；

所述移动体包括相互连接的杆部和连接部，所述杆部可移动地插设于所述导向套，所述转轴可转动的设置于所述连接部。

7.根据权利要求6所述的氮化硅研磨装置，其特征在于，所述杆部垂直于所述连接部。

8.根据权利要求6所述的氮化硅研磨装置，其特征在于，所述盛装体上设有延伸体，所述延伸体上设有条形孔，所述连接部延伸至所述条形孔内；

当所述杆部相对所述导向套竖向移动时，所述连接部能够在所述条形孔内移动。

9.根据权利要求6所述的氮化硅研磨装置，其特征在于，所述第一驱动装置包括丝杆和驱动机构；

所述丝杆可转动的设置于所述导向套内，所述丝杆与所述导向套同轴设置，所述丝杆螺接于所述杆部；

所述驱动机构用于驱动所述丝杆相对所述导向套转动。

10.根据权利要求9所述的氮化硅研磨装置，其特征在于，所述驱动机构包括蜗轮和蜗杆，所述蜗轮设于所述丝杆，所述蜗杆可转动的设置于所述导向套，所述蜗轮与所述蜗杆啮合。