[实用新型]磁控装置及物理气相沉积设备有效

专利信息
申请号: 201822071932.1 申请日: 2018-12-11
公开(公告)号: CN209243164U 公开(公告)日: 2019-08-13
发明(设计)人: 孙明亮;吴孝哲;林宗贤;吴龙江;熊建锋 申请(专利权)人: 德淮半导体有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35
代理公司: 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 代理人: 孙佳胤;陈丽丽
地址: 223300 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 软磁铁 传送带 磁控装置 靶材 物理气相沉积设备 本实用新型 永磁铁 磁控 半导体制造技术 宽度方向延伸 磁极 半导体制造 传送带表面 传送组件 磁控组件 接触连接 轴线传动 长条形 夹设 排布 竖直 磁场 投影 穿过
【权利要求书】:

1.一种磁控装置,其特征在于,包括:

传送组件,位于靶材上方,包括环形的传送带;所述传送带能够围绕穿过其中心且沿其宽度方向延伸的轴线传动;所述传送带在竖直方向上的投影完全覆盖所述靶材;

磁控组件,固定于所述传送带表面,包括至少一个磁控结构,所述磁控结构包括沿第一方向排布的两个软磁铁以及夹设于两个所述软磁铁之间的多个永磁铁;所述软磁铁呈长条形,所述永磁铁的两个磁极与两个所述软磁铁一一接触连接,以在所述软磁铁中感应出均匀分布的磁场。

2.根据权利要求1所述的磁控装置,其特征在于,所述磁控组件包括至少一磁控单元;所述磁控单元包括至少一个磁控结构,所述磁控结构的两个所述软磁铁之间对称的夹设有两个永磁铁,且两个所述永磁铁的磁极朝向相反。

3.根据权利要求2所述的磁控装置,其特征在于,所述磁控单元包括多个所述磁控结构,且多个所述磁控结构沿所述传送带的宽度方向等间隔排列。

4.根据权利要求3所述的磁控装置,其特征在于,所述磁控组件包括多个沿所述传送带的长度方向排列的所述磁控单元,且相邻两个所述磁控单元中的磁控结构错位排布。

5.根据权利要求1所述的磁控装置,其特征在于,所述磁控组件包括至少一磁控单元;所述磁控单元包括两个沿所述传送带的长度方向平行排列的磁控结构,每个所述磁控结构中包括多个等间隔排布、且磁极朝向相同的永磁铁;所述磁控单元中的两个所述磁控结构的永磁铁磁极朝向相反。

6.根据权利要求5所述的磁控装置,其特征在于,所述磁控组件包括多个磁控单元,且多个所述磁控单元沿所述传送带的长度方向等间隔排布。

7.根据权利要求1所述的磁控装置,其特征在于,还包括用于容纳所述传送组件与所述磁控组件的容纳槽;所述传送带为履带,所述传送组件还包括滑轨;所述滑轨呈闭合环状,且所述滑轨的侧壁固定于所述容纳槽的槽壁表面;所述磁控组件固定于所述履带表面;所述履带连接于所述滑轨表面,且能够沿所述滑轨运动。

8.根据权利要求7所述的磁控装置,其特征在于,所述履带包括第一表面以及与所述第一表面相对的第二表面;所述磁控组件固定于所述第一表面,所述第二表面具有与所述滑轨连接的第一滚轮,所述第一滚轮能够沿所述滑轨运动。

9.根据权利要求8所述的磁控装置,其特征在于,所述滑轨包括朝向所述磁控组件的第三表面和与第三表面相对的第四表面,所述滑轨的侧壁位于所述第三表面与所述第四表面之间;所述第四表面设置有固定架,所述固定架的侧壁固定于所述槽壁表面,以避免所述滑轨变形。

10.一种物理气相沉积设备,其特征在于,包括如权利要求1-9中任一项所述的磁控装置。

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