[实用新型]一种无硅离型膜有效
| 申请号： | 201822078153.4 | 申请日： | 2018-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN210103807U | 公开（公告）日： | 2020-02-21 |
| 发明（设计）人： | 姜涛 | 申请（专利权）人： | 厦门翌阳电子科技有限公司 |
| 主分类号： | C08J7/04 | 分类号： | C08J7/04;C09J7/40;C08L67/02 |
| 代理公司： | 北京联瑞联丰知识产权代理事务所(普通合伙) 11411 | 代理人： | 张清彦 |
| 地址： | 361000 福建省厦门市中国（福建）自由贸易试验区*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 无硅离型膜 | ||
【权利要求书】：
1.一种无硅离型膜，其特征在于，包括基材层，所述基材层的一侧面形成电晕层，所述电晕层的表面形成无硅离型层，所述无硅离型层采用烷烃共聚物材质，所述无硅离型层的厚度为4μm，离型力为20-50G。
2.根据权利要求1所述的一种无硅离型膜，其特征在于：所述基材层采用聚对苯二甲酸乙二醇酯材质。
3.根据权利要求2所述的一种无硅离型膜，其特征在于：所述基材层的厚度50～75μm，透光率为92～95％，雾度为1.5～2％。
4.根据权利要求1所述的一种无硅离型膜，其特征在于：所述电晕层的厚度为2～4μm，所述电晕层进行电晕处理的功率为12～22KW。
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